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J-GLOBAL ID：200903057254203502

半導体装置

Inventor：
井上 薫

About 井上 薫

, 
池田 義人

About 池田 義人

, 
正戸 宏幸

About 正戸 宏幸


Applicant, Patent owner：
松下電器産業株式会社

About 松下電器産業株式会社


Agent (1)： 前田 弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001090490
Publication number (International publication number)：2002289837
Application date： Mar. 27, 2001
Publication date： Oct. 04, 2002
Summary：
【要約】【課題】 GaNを含む半導体のヘテロ構造を用いたFETにおいて、ドレイン電流の減少を確実に防止してFETの動作を安定させると共に、オーミック電極のコンタクト抵抗を低減できるようにする。【解決手段】 基板101上に、GaN膜からなるバッファー層103及びAlGaN膜からなる電子供給層104が順次形成されている。電子供給層104の上面は、n型のInGaAlN膜からなるキャップ層105によって覆われている。キャップ層105の所定の領域に設けられた凹部及びその上部に、ゲート電極106が電子供給層104と接続するように形成されていると共に、キャップ層105の上におけるゲート電極106の両側にソース電極107及びドレイン電極108が形成されている。
Claim (excerpt)：
基板上に形成されたGaN膜と、前記GaN膜上に形成されたAlGaN膜と、前記AlGaN膜上に形成されたゲート電極と、前記AlGaN膜上における前記ゲート電極の両側に形成されたソース電極及びドレイン電極とを備え、前記ソース電極及びドレイン電極のそれぞれと前記AlGaN膜との間に、n型のIn<SB>x</SB>Ga<SB>y</SB>Al<SB>1-x-y</SB>N 膜(但し、0<x<1、0≦y<1、0<x+y<1)が形成されていることを特徴とする半導体装置。
IPC (4)：
H01L 29/778 ,  H01L 21/338 ,  H01L 29/812 ,  H01L 21/205
FI (2)：
H01L 21/205 ,  H01L 29/80 H
F-Term (31)：
5F045AB09 ,  5F045AB14 ,  5F045AB17 ,  5F045AB18 ,  5F045AF02 ,  5F045AF04 ,  5F045AF09 ,  5F045BB12 ,  5F045BB16 ,  5F045CA05 ,  5F045DA53 ,  5F045DA57 ,  5F102FA02 ,  5F102FA03 ,  5F102GB01 ,  5F102GC01 ,  5F102GD01 ,  5F102GJ03 ,  5F102GJ10 ,  5F102GK04 ,  5F102GK08 ,  5F102GL04 ,  5F102GL08 ,  5F102GM01 ,  5F102GM04 ,  5F102GM08 ,  5F102GM10 ,  5F102GN04 ,  5F102GN08 ,  5F102GN10 ,  5F102GR04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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