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J-GLOBAL ID：200903057358775389
新規オニウム塩及びレジスト材料用光酸発生剤並びにレジスト材料及びパターン形成方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小島 隆司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000245564
Publication number (International publication number)：2001122850
Application date： Aug. 14, 2000
Publication date： May. 08, 2001
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 高解像性を有する化学増巾型レジスト材料の提供。【解決手段】 下記一般式(1)で示されるオニウム塩。(式中R1は炭素数1〜10の直鎖、分岐もしくは環状の置換もしくは非置換のアルキル基又は炭素数6〜14の置換もしくは非置換のアリール基を示す。R2は同一でも異なってもよく、水素原子又は炭素数1〜6の直鎖、分岐もしくは環状の置換もしくは非置換のアルキル基を示す。pは1〜5の整数、qは0〜4の整数であり、p+q=5である。R3は同一でも異なってもよく、炭素数1〜10の直鎖、分岐もしくは環状の置換もしくは非置換のアルキル基又は炭素数6〜14の置換もしくは非置換のアリール基を示す。Mは硫黄原子又はヨウ素原子を示し、Mが硫黄原子の場合、aは3であり、Mがヨウ素原子の場合、aは2である。)
Claim (excerpt)：
下記一般式(1)で示されるオニウム塩。【化1】(式中R1は炭素数1〜10の直鎖、分岐もしくは環状の置換もしくは非置換のアルキル基又は炭素数6〜14の置換もしくは非置換のアリール基を示す。R2は同一でも異なってもよく、水素原子又は炭素数1〜6の直鎖、分岐もしくは環状の置換もしくは非置換のアルキル基を示す。pは1〜5の整数、qは0〜4の整数であり、p+q=5である。R3は同一でも異なってもよく、炭素数1〜10の直鎖、分岐もしくは環状の置換もしくは非置換のアルキル基又は炭素数6〜14の置換もしくは非置換のアリール基を示す。Mは硫黄原子又はヨウ素原子を示し、Mが硫黄原子の場合、aは3であり、Mがヨウ素原子の場合、aは2である。)
IPC (9)：
C07C381/12
, C07C309/72
, C08F 12/24
, C08K 5/42
, C08L 25/16
, C08L101/00
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
C07C381/12
, C07C309/72
, C08F 12/24
, C08K 5/42
, C08L 25/16
, C08L101/00
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
