反射防止膜形成用組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：服部平八
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997205480
Publication number (International publication number)：1999038622
Application date： Jul. 16, 1997
Publication date： Feb. 12, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明は、レジスト組成物層と反射防止膜との間にインターミキシングの起ることのない反射防止膜形成用組成物及び寸法精度、断面形状に優れたレジストパターンの形成方法を提供すること。【解決手段】活性光線の照射により酸を発生する化合物、酸の存在下で架橋化反応する化合物及び染料を含有することを特徴とする反射防止膜形成用組成物、及び該反射防止膜形成用組成物を用いたレジストパターンの形成方法。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の存在下で架橋化反応する化合物及び(C)染料を含有することを特徴とする反射防止膜形成用組成物。

IPC (5)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/004 503 , G03F 7/004 507 , G03F 7/11 503 , H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/004 503 Z , G03F 7/004 507 , G03F 7/11 503 , H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 568

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ハレーション止め組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-328816 Applicant：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
反射防止膜の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-293053 Applicant：日本電気株式会社
レジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-226118 Applicant：株式会社東芝

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