Pat
J-GLOBAL ID:200903057419376687
オフセット補正決定用信号提供方法および干渉計システム
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
渡部 敏彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004231024
Publication number (International publication number):2005062183
Application date: Aug. 06, 2004
Publication date: Mar. 10, 2005
Summary:
【課題】 付加的な特別の光路または制御可能な経路長変化量を必要とせずに、干渉計のいずれかまたは全ての光路に対して、干渉測定信号のオフセット成分に対するオフセット補正を決定するのに使用可能な信号を提供することができるオフセット補正決定用信号提供方法を提供する。 【解決手段】 対応する信号が検出チャネルの検出器によって取得または積分される期間中に干渉計の照明光源からの放射線の波長が変えられ、これにより、干渉計における検出チャネル信号に対するオフセット寄与を示す信号が提供される。これは、干渉計の各検出チャネルで実施することができる。オフセットの最良の評価値を提供するために、波長は、検出器に与えられる光信号のいくつかの周期的なサイクルに対応する期間に亘り一定である速度で変えられる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
参照ビーム経路、対象物ビーム経路、検出器を備える少なくとも1つの検出チャネル、および可変波長照明を提供するように動作可能な照明光源を備える干渉計に用いられ、前記干渉計の検出チャネルによって提供される干渉測定信号のオフセット成分に対するオフセット補正を決定するのに使用可能な信号を提供するためのオフセット補正決定用信号提供方法であって、
信号積分期間を提供するように、前記少なくとも1つの検出チャネルの検出器を操作する工程と、
可変波長照明が波長範囲に亘って変化し、前記信号積分期間の少なくとも一部の間に、波長範囲に亘って分配される複数の波長を提供するように、前記干渉計に対する可変波長照明を提供する照明光源を操作する工程と、
前記信号積分期間の少なくとも一部の間に前記検出器へ、前記干渉計に対する可変波長照明から生じる干渉光の光信号を入力する工程と、
前記信号積分期間中に干渉光の光信号に応答して前記検出器に生じる信号を積分し、その積分信号を提供する工程とを備え、
波長範囲に亘って分配された複数の波長が、前記信号積分期間の少なくとも一部の間に干渉光の光信号の複数の光位相に対応し、光位相シフト範囲に亘って分配された複数の光位相が波長範囲に対応し、
前記波長範囲は、少なくとも2π(rad)の光位相シフトに対応し、
前記積分信号は、前記干渉計の前記検出チャネルによって提供される少なくとも1つの干渉測定信号のオフセット成分のためのオフセット補正を決定するのに使用可能であることを特徴とするオフセット補正決定用信号提供方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (12):
2F064CC01
, 2F064CC10
, 2F064DD07
, 2F064EE01
, 2F064FF01
, 2F064FF08
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F064GG53
, 2F064HH03
, 2F064HH08
, 2F064JJ01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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位相シフト干渉縞同時撮像装置における平面形状計測方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-197484
Applicant:株式会社ミツトヨ
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位相シフト干渉縞同時撮像装置における平面形状計測方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-167748
Applicant:株式会社ミツトヨ
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周波数走査型干渉計のための多工程データ処理
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2004-516161
Applicant:ライトゲイジインコーポレイテッド
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非鏡面基準表面をもつ周波数走査型干渉計
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2004-517913
Applicant:ライトゲイジインコーポレイテッド
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波長ゆらぎ測定方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-284606
Applicant:富士写真光機株式会社
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実時間表面形状計測方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-302896
Applicant:理化学研究所
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