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J-GLOBAL ID：200903057436964100

新規な光反応用触媒及びそれを使用する光触媒反応方法

Inventor： 佐山 和弘 ,  草間 仁 ,  岡部 清美 ,  荒川 裕則
Applicant, Patent owner： 工業技術院長
Agent (1)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995237424
Publication number (International publication number)：1997075745
Application date： Sep. 14, 1995
Publication date： Mar. 25, 1997
Summary：

【要約】【課題】 従来の半導体光触媒より大幅に高性能な半導体光触媒、及び該触媒を使用する光触媒反応方法を提供すること。【解決手段】 半導体組成が異なる2種類以上の半導体光触媒から成ることを特徴とする光反応用触媒及び該触媒を使用する光触媒反応方法。紫外光透過性無機物粉末と半導体光触媒から成ることを特徴とする光反応用触媒及び該触媒を使用する光触媒反応方法。

Claim (excerpt)：

半導体組成が異なる2種類以上の半導体光触媒から成ることを特徴とする光反応用触媒。

IPC (4)：

B01J 35/02 ,  B01J 21/08 ,  B01J 23/42 ,  C02F 1/32

FI (4)：

B01J 35/02 J ,  B01J 21/08 Z ,  B01J 23/42 Z ,  C02F 1/32

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 光触媒粉体を用いた酸化・還元方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-313224   Applicant：ぺんてる株式会社
• 特開昭63-097234
  
• 耐被毒脱臭光触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-322735   Applicant：日揮ユニバーサル株式会社
• 光触媒の担持方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-070126   Applicant：松下電工株式会社
• 光触媒とその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-199212   Applicant：日本発条株式会社