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J-GLOBAL ID:200903057559688298
液晶表示装置の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大岩 増雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998331711
Publication number (International publication number):2000155335
Application date: Nov. 20, 1998
Publication date: Jun. 06, 2000
Summary:
【要約】【課題】 画素最上層構造を有する液晶表示装置において、層間絶縁膜を介した画素電極とドレイン電極の接続抵抗を低減できると共に、画素電極形成時に、ITO膜を一回のエッチング処理工程で実装端子間に短絡のないかつ良好なパターン形状にパターニングすることのできる液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】 画素電極13とドレイン電極8を接続するための層間絶縁膜11およびパッシベーション膜10へのコンタクトホール12形成工程において、ドライエッチング条件を、コンタクトホール12底部の残さ物除去を目的としたO2 ガスによるアッシング処理後に、フッ素系ガス+O2 ガス等によるエッチング処理を行い層間絶縁膜11の表面の凹凸を低減する。
Claim (excerpt):
少なくともいずれか一方には電極が形成されている二枚の透明絶縁性基板を対向させて接着すると共に、上記二枚の透明絶縁性基板の間に液晶材料を挟持してなる液晶表示装置の製造方法において、上記二枚の透明絶縁性基板の一方に走査電極、走査電極配線および走査電極配線端子を形成する工程と、上記走査電極、走査電極配線および走査電極配線端子上に絶縁膜を形成する工程と、上記走査電極上に上記絶縁膜を介して半導体層を形成する工程と、上記半導体層上に第一の電極、第一の電極配線、第一の電極配線端子および第二の電極を形成する工程と、上記第一の電極、第一の電極配線、第一の電極配線端子および第二の電極上にパッシベーション膜を形成する工程と、上記パッシベーション膜上に感光性を有する透明樹脂を塗布し、露光、現像処理により上記第二の電極上にコンタクトホール、および上記走査電極配線端子と第一の電極配線端子が形成された実装領域に開口部を有する層間絶縁膜を形成する工程と、上記層間絶縁膜をマスクとして、上記コンタクトホールおよび開口部により露出した上記パッシベーション膜および絶縁膜をドライエッチング法によりエッチングする工程と、上記層間絶縁膜上と上記コンタクトホール内、および上記開口部により露出した上記透明絶縁性基板上と上記走査電極配線端子、第一の電極配線端子上に透明導電膜を成膜し、一回のエッチング処理によりパターニングして、上記第二の電極と上記コンタクトホールを介して電気的に接続された画素電極、および上記走査電極配線端子と第一の電極配線端子上に透明導電膜パターンを形成する工程を含み、上記ドライエッチング法によるエッチング処理後の上記層間絶縁膜表面は平滑な状態であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
IPC (5):
G02F 1/136 500
, C23F 4/00
, G02F 1/1343
, H01L 29/786
, H01L 21/336
FI (6):
G02F 1/136 500
, C23F 4/00
, G02F 1/1343
, H01L 29/78 612 C
, H01L 29/78 616 S
, H01L 29/78 627 Z
F-Term (57):
2H092GA17
, 2H092GA25
, 2H092JA05
, 2H092JA24
, 2H092JA28
, 2H092JA37
, 2H092JA46
, 2H092JB12
, 2H092JB13
, 2H092JB22
, 2H092JB31
, 2H092KA05
, 2H092KB24
, 2H092MA10
, 2H092MA12
, 2H092MA15
, 2H092MA16
, 2H092MA18
, 2H092MA19
, 2H092MA29
, 2H092MA31
, 2H092NA16
, 2H092NA19
, 2H092NA27
, 2H092NA28
, 4K057DA19
, 4K057DB06
, 4K057DB11
, 4K057DB15
, 4K057DE06
, 4K057DE08
, 4K057DE20
, 4K057DN01
, 5F110AA16
, 5F110AA18
, 5F110BB01
, 5F110CC07
, 5F110EE04
, 5F110EE23
, 5F110EE44
, 5F110FF03
, 5F110FF30
, 5F110GG02
, 5F110GG13
, 5F110GG15
, 5F110GG45
, 5F110HK09
, 5F110HK16
, 5F110NN03
, 5F110NN24
, 5F110NN27
, 5F110NN35
, 5F110NN36
, 5F110NN40
, 5F110QQ03
, 5F110QQ09
, 5F110QQ19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
アクティブマトリクス基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-347349
Applicant:ソニー株式会社
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表示用基板の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-166044
Applicant:ソニー株式会社
-
液晶表示装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-021113
Applicant:シャープ株式会社
-
電気光学素子の製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-076297
Applicant:株式会社アドバンスト・ディスプレイ
-
特開平4-324683
-
薄膜トランジスタアレイ基板およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-348016
Applicant:日本電気株式会社
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