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J-GLOBAL ID:200903057648395709

面型光増幅素子とその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 工業技術院電子技術総合研究所長
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998029380
Publication number (International publication number):1999233889
Application date: Feb. 12, 1998
Publication date: Aug. 27, 1999
Summary:
【要約】【目的】 単一かつ均一で、要すれば大口径の光ビームの増幅やレーザ発振も可能な素子を提供する。【構成】 光増幅機能部分11を、当該光増幅機能部分11を構築した基板とは異なる他の透明基板21に透明接着剤22を用いて接着する。活性層13を挟んでホール注入側となる p型半導体層14,15へのホール注入は、複数個に分割して設けられた分割電極16からなす。
Claim (excerpt):
励起キャリアを生成する活性層を p型と n型の半導体層で挟んだ構造を含む光増幅機能部分を有し、支持基板の表面に対し所定角度起ち上がった方向に光ビームを出射する面型光増幅素子であって;上記光増幅機能部分が該光増幅機能部分を構築した基板とは異なる他の透明基板に接着されており、かつ、該透明基板を介して上記活性層からの光ビームが出射すること;を特徴とする面型光増幅素子。
IPC (2):
H01S 3/18 ,  H01S 3/10
FI (2):
H01S 3/18 ,  H01S 3/10 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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