化学増幅ポジ型レジスト組成物及びパタ-ン形成方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小島隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999018189
Publication number (International publication number)：2000214587
Application date： Jan. 27, 1999
Publication date： Aug. 04, 2000
Summary：

【要約】【解決手段】 (A)酸との反応によりアルカリ可溶性となる樹脂の間を三級エステル構造を有する有機基で架橋してなり、酸により該架橋が切断される高分子化合物、(B)放射線の照射により酸を発生する感放射性酸発生剤、(C)有機溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、高エネルギー線に感応し、感度、解像性、プラズマエッチング耐性に優れ、しかもレジストパターンの耐熱性、再現性にも優れている。

Claim (excerpt)：

(A)酸との反応によりアルカリ可溶性となる樹脂の間を三級エステル構造を有する有機基で架橋してなり、酸により該架橋が切断される高分子化合物、(B)放射線の照射により酸を発生する感放射線酸発生剤、(C)有機溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (20)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AA10 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AD03 , 2H025CB06 , 2H025CB13 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CB53 , 2H025CC03 , 2H025EA04 , 2H025FA07 , 2H025FA12 , 2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平3-241355
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-316888 Applicant：ジェイエスアール株式会社
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-272803 Applicant：富士写真フイルム株式会社

Show all

Return to Previous Page