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J-GLOBAL ID：200903035233257471

感放射線性樹脂組成物

Inventor：
小林 英一

About 小林 英一

, 
西村 幸生

About 西村 幸生

, 
塩谷 健夫

About 塩谷 健夫


Applicant, Patent owner：
ジェイエスアール株式会社

About ジェイエスアール株式会社


Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998318559
Publication number (International publication number)：2000147772
Application date： Nov. 10, 1998
Publication date： May. 26, 2000
Summary：
【要約】【課題】 PEDによりレジストパターンが線幅の変化を生じたりT型形状になったりすることがなく、かつ現像欠陥を生じることのなく、しかも遠紫外線、荷電粒子線、X線の如き各種の放射線に対して、高感度で解像度性能に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 組成物は、(A)p-ヒドロキシスチレンと(メタ)アクリル酸t-ブチルおよび/または(メタ)アクリル酸1,1-ジメチル-3-オキソブチルとの共重合体、p-ヒドロキシスチレンとp-t-ブトキシスチレンおよび/またはp-アセトキシスチレンとの共重合体等で代表される樹脂、並びに(B)ベンゼン核に有機置換基を有するか、あるいはベンゼン核の構成炭素原子と共に形成した環構造を有するジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート誘導体からなる感放射線性酸発生剤を含有する。
Claim (excerpt)：
(A)下記式(1)で表される繰返し単位(1)と下記式(2)で表される繰返し単位(2)および/または下記式(3)で表される繰返し単位(3)とを有する樹脂、および(B)下記式(4)で表される感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔式(1)において、R1 は水素原子またはメチル基を示す。〕【化2】〔式(2)において、R2 は水素原子またはメチル基を示し、R3 は炭素数4〜10の3級アルキル基または1,1-ジメチル-3-オキソブチル基を示す。〕【化3】〔式(3)において、R4 は水素原子またはメチル基を示し、R5 はt-ブチル基またはアセチル基を示す。〕【化4】〔式(4)において、R6 〜R11は相互に独立に水素原子または炭素数1〜6の1価の有機基を示すか、あるいはR6 〜R8 のうちの二つが互いに結合して式(3)中のベンゼン核を構成する炭素原子と共に3〜8員環の環構造を形成して、R6 〜R8 のうちの残りの一つが水素原子または炭素数1〜6の1価の有機基を示すか、あるいはR9 〜R11のうちの二つが互いに結合して式(3)中のベンゼン核を構成する炭素原子と共に3〜8員環の環構造を形成して、R9 〜R11のうちの残りの一つが水素原子または炭素数1〜6の1価の有機基を示し、かつR6〜R11のうちの少なくとも一つが水素原子以外の基である。〕
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 Z ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (18)：
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025FA12
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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