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J-GLOBAL ID：200903058070396630

基板洗浄用水の製造装置及び製造方法、それらにより製造された基板洗浄用水、並びに該基板洗浄用水を用いた基板の洗浄方法

Inventor：
北田 淳

About 北田 淳

, 
河野 直

About 河野 直


Applicant, Patent owner：
株式会社タキオテック

About 株式会社タキオテック


Agent (1)： 清水 初志 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001336074
Publication number (International publication number)：2002224674
Application date： Oct. 21, 1996
Publication date： Aug. 13, 2002
Summary：
【要約】【課題】 低コストで容易かつ無害に半導体基板などを洗浄し得る電解イオン水を製造することができる電解イオン水の製造装置を提供する。【解決手段】 電解槽1に満たされた電解質水溶液2を、多孔性中性膜からなり水が自由に流通できる隔膜6により、陽極電解液2aと陰極電解液2bとに分ける。そして、使用する電極のうち特に陰極電極5に適正な穴(直径が2〜4mmで、穴の面積の合計が電極板の面積に対して5〜55%の有効な開口面積とする)を設けることにより、電解液が電極表裏間を自由に移動し得るようになり、陽極電極4および陰極電極5において飽和濃度まで溶解した電解液が容易に低濃度の溶解した液と交換され、電解液中へのガス溶解およびイオン発生が効率よく行われ、その結果、負極還元水が陰極側で得られる。
Claim (excerpt)：
電解槽と、該電解槽に貯留された電解質水溶液と、該電解質水溶液に挿入された電極と、前記電解質水溶液を陽極側と陰極側とに隔離する多孔性の隔膜と、を備え、前記電極に電流を通じることにより電解イオン水を製造する装置であって、前記電極の内、少なくとも陰極に貫通穴が開口していることを特徴とする基板洗浄用水の製造装置。
IPC (6)：
C02F 1/46 ,  B08B 3/08 ,  C25B 1/06 ,  C25B 9/00 ,  C25B 9/08 ,  C25B 11/03
FI (6)：
C02F 1/46 A ,  B08B 3/08 Z ,  C25B 1/06 ,  C25B 11/03 ,  C25B 9/00 A ,  C25B 9/00 L
F-Term (31)：
3B201AA03 ,  3B201BB22 ,  3B201BB82 ,  3B201BB89 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  4D061DA01 ,  4D061DB07 ,  4D061DB08 ,  4D061EA02 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB12 ,  4D061EB20 ,  4D061EB30 ,  4D061ED12 ,  4K011AA06 ,  4K011AA11 ,  4K011AA21 ,  4K011AA31 ,  4K011BA07 ,  4K011CA04 ,  4K011DA01 ,  4K021AA01 ,  4K021AA09 ,  4K021AB25 ,  4K021BA02 ,  4K021DA03 ,  4K021DB12 ,  4K021DB28 ,  4K021DC15
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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