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J-GLOBAL ID：200903058105079684
化学増幅型レジスト組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
八田 幹雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997279070
Publication number (International publication number)：1998153864
Application date： Oct. 13, 1997
Publication date： Jun. 09, 1998
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 化学式1または化学式2の高分子及びPAGを含む化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 化学式1の高分子及びPAGを含む化学増幅型のレジスト組成物:式中R1 及びR2 はヒドロキシル基又はカルボキシル基を有するC1 〜C10の脂肪族炭化水素、R3 は水素原子又はメチル基、R4 はt-ブチル基あるいはテトラヒドロピラニル基、mおよびnは定数で、n/(m+n)=0.1〜0.5である。また、化学式2の高分子及びPAGを含む化学増幅型レジスト組成物:式中、XはC5 〜C8 である環式又は脂環式化合物、R1 は水素原子又はメチル基、R2 はt-ブチル基、テトラヒドロピラニル基、アダマンチル基よりなる群から選ばれるいずれか、mおよびnは定数で、n/(m+n)=0.1〜0.5である。
Claim (excerpt)：
化学式1の高分子及びPAG(Photoacid Generator)を含む化学増幅型レジスト組成物:【化1】ここで、R1 及びR2 はヒドロキシル基又はカルボキシル基を有するC1 〜C10の脂肪族炭化水素であり、R3 は水素原子又はメチル基であり、R4 はt-ブチル基あるいはテトラヒドロピラニル基であり、mおよびnは整数であり、n/(m+n)=0.1〜0.5である。
IPC (10)：
G03F 7/039 601
, C08F220/10
, C08F222/06
, C08F232/00
, C08K 5/03
, C08K 5/375
, C08L 33/04
, C08L 35/00
, C08L 45/00
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, C08F220/10
, C08F222/06
, C08F232/00
, C08K 5/03
, C08K 5/375
, C08L 33/04
, C08L 35/00
, C08L 45/00
, H01L 21/30 502 R
