光減衰器とその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高月猛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997333359
Publication number (International publication number)：1998160937
Application date： Dec. 03, 1997
Publication date： Jun. 19, 1998
Summary：

【要約】【課題】より信頼性が高く製造の容易な光減衰器の提供。【解決手段】コア層の全反射条件を変化させる1以上の回折格子10を光ファイバ12に形成した光減衰器とする。その回折格子はエキシマレーザにより形成する。従来のようなファイバ端面間に薄膜フィルタを入れた構造ではないので、製造が容易で信頼性も高くなる。

Claim (excerpt)：

コア層の全反射条件を変化させる1以上の回折格子を光ファイバに形成してなる光減衰器。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

シリカガラス位相グレーティングマスクを用いるブラッググレーティングの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-270361 Applicant：カナダ
長周期スペクトル成形デバイスを使用する光システムと光デバイス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-074294 Applicant：エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション
導波路型光フィルタの作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-089154 Applicant：住友電気工業株式会社

Show all

Return to Previous Page