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J-GLOBAL ID：200903058909310265

排ガス中のダイオキシン類削減方法及び装置

Inventor：
黒田 芳喜

About 黒田 芳喜

, 
石川 龍一

About 石川 龍一

, 
金子 充良

About 金子 充良


Applicant, Patent owner：
株式会社荏原製作所

About 株式会社荏原製作所


Agent (1)： 熊谷 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001226226
Publication number (International publication number)：2003033628
Application date： Jul. 26, 2001
Publication date： Feb. 04, 2003
Summary：
【要約】【課題】 廃棄物焼却炉又はガス化溶融炉から排出される排ガス中のダイオキシン類濃度を0.01(ng-TEQ/m3N)の極低濃度域まで安定して削減することができる排ガス中のダイオキシン類削減方法及び装置を提供すること。【解決手段】 ガス化溶融炉21から排出される排ガスを減温工程22で冷却した後、バグフィルタ23を有する集塵工程排ガス中のダストHCl,SOxを除去し、その後、該排ガスを上流側に脱硝触媒層を下流側に活性炭層を配置した一体構造の活性炭層付き触媒反応塔24に入口温度150〜200°Cで通過せしめ、該脱硝触媒層により大部分のダイオキシン類を分解させ、残分のダイオキシン類を該活性炭層に吸着せしめる。
Claim (excerpt)：
廃棄物焼却炉又は廃棄物ガス化溶融炉から排出される排ガスを減温工程で冷却した後、集塵工程又は排ガス処理工程で該排ガス中のダストHCl,SOxを除去し、その後該排ガスを上流側に脱硝触媒層を下流側に活性炭層を配置した一体構造の活性炭層付き触媒反応塔に入口温度150〜200°Cで通過せしめ、該脱硝触媒層により大部分のダイオキシン類を分解させ、残分のダイオキシン類を該活性炭層に吸着せしめることを特徴とする排ガス中のダイオキシン類削減方法。
IPC (5)：
B01D 53/86 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/70 ,  F23G 5/44 ,  F23J 15/00
FI (5)：
F23G 5/44 Z ,  B01D 53/36 G ,  B01D 53/34 134 E ,  B01D 53/34 ZAB ,  F23J 15/00 J
F-Term (49)：
3K065AA24 ,  3K065AB01 ,  3K065AB03 ,  3K065BA01 ,  3K065BA08 ,  3K065HA02 ,  3K065HA03 ,  3K070DA03 ,  3K070DA05 ,  3K070DA14 ,  3K070DA16 ,  3K070DA22 ,  3K070DA24 ,  3K070DA27 ,  3K070DA32 ,  3K070DA35 ,  3K070DA83 ,  4D002AA02 ,  4D002AA12 ,  4D002AA19 ,  4D002AA21 ,  4D002AC04 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA03 ,  4D002BA04 ,  4D002BA06 ,  4D002BA13 ,  4D002BA14 ,  4D002CA07 ,  4D002DA02 ,  4D002DA05 ,  4D002DA07 ,  4D002DA12 ,  4D002DA41 ,  4D002EA02 ,  4D002EA03 ,  4D002GA01 ,  4D002GB03 ,  4D048AA11 ,  4D048AB03 ,  4D048CC51 ,  4D048CD01 ,  4D048CD02 ,  4D048CD03 ,  4D048CD08 ,  4D048DA01 ,  4D048DA03 ,  4D048DA06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (18)
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Cited by examiner (8)
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Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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