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J-GLOBAL ID：200903058973414074

ガス分析用Jet-REMPI装置

Inventor： 林 俊一 ,  鈴木 哲也 ,  草野 英昭 ,  藤井 正明 ,  酒井 誠 ,  石内 俊一
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社 ,  株式会社日鐵テクノリサーチ ,  株式会社島津製作所 ,  国立大学法人東京工業大学
Agent (3)： 田村 弘明 ,  矢葺 知之 ,  津波古 繁夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005371325
Publication number (International publication number)：2007171064
Application date： Dec. 26, 2005
Publication date： Jul. 05, 2007
Summary：

【課題】燃焼ガスや大気中ガスの成分組成を測定する際に、従来のパルスバルブを用いずに、被測定ガス中の特定注目分子をそのままの状態で連続的にかつ高感度で定量分析できるガス分析用Jet-REMPI装置を提供する。【解決手段】ガス導入系、真空槽、イオン化室、レーザ照射系、飛行時間型質量分析計からなり、真空槽の内部構造を、(A)オリフィスノズルとスキマーとからなり、ガス導入系からの被測定ガスを連続的な超音速分子ジェット流として切り出す分子ジェット形成室と、(B)スキマーとイオン光学系とレーザ光導入路とからなり、超音速分子ジェット流とレーザ照射系からのレーザ光を導入し、超音速分子ジェット流域にレーザ光を照射して特定分子をイオン化し、該生成イオンを飛行時間型質量分析計まで加速偏向させるイオン化室と、(C)その他空間部の3分割構造とし、真空槽、分子ジェット形成室、イオン化室の夫々に個別の排気系を備えた。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

ガス導入系、真空槽、イオン化室、レーザ照射系および飛行時間型質量分析計からなり、前記ガス導入系から前記真空槽内に被測定ガスを導入して超音速分子ジェット流域を形成すると共に、該超音速分子ジェット流域に対して前記レーザ照射系からレーザ光を照射して被測定ガス中の特定分子を共鳴多光子吸収過程でイオン化し、該生成イオンを前記イオン化室内のイオン光学系により加速偏向させた後、前記飛行時間型質量分析計で被測定ガス中の前記特定分子を分析するJet-REMPI装置において、 前記真空槽の内部構造を、(A)オリフィスノズルとスキマーとからなり、前記ガス導入系から供給される被測定ガスを連続的な超音速分子ジェット流とし、切り出すための分子ジェット形成室と、(B)スキマーと前記イオン光学系とレーザ光導入路とからなり、前記分子ジェット形成室から切り出された超音速分子ジェット流と、前記レーザ照射系から出力されたレーザ光とを導入し、超音速分子ジェット流域にレーザ光を照射して特定分子を共鳴多光子吸収過程でイオン化し、該生成イオンを前記飛行時間型質量分析計まで加速偏向させるためのイオン化室と、(C)その他空間部の3分割構造とし、真空槽、分子ジェット形成室、およびイオン化室のそれぞれに個別の排気系を備えたことを特徴とするガス分析用Jet-REMPI装置。

IPC (4)：

G01N 1/00 ,  G01N 1/28 ,  G01N 27/64 ,  G01N 27/62

FI (6)：

G01N1/00 101R ,  G01N1/28 T ,  G01N1/00 101J ,  G01N1/00 102D ,  G01N27/64 B ,  G01N27/62 K

F-Term (17)：

2G041CA01 ,  2G041DA03 ,  2G041EA05 ,  2G041FA08 ,  2G041GA18 ,  2G041JA10 ,  2G052AA01 ,  2G052AA39 ,  2G052AD02 ,  2G052AD22 ,  2G052AD42 ,  2G052CA04 ,  2G052EA01 ,  2G052EA03 ,  2G052FD08 ,  2G052GA24 ,  2G052HC22

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• ダイオキシン分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-020653   Applicant：三菱重工業株式会社
• ダイオキシン類分析装置及び燃焼制御システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-303438   Applicant：三菱重工業株式会社

Cited by examiner (7)

• 排ガスモニタ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-133728   Applicant：株式会社日立製作所
• 有機ハロゲン化物濃度校正装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-045801   Applicant：三菱重工業株式会社
• ダイオキシン分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-020653   Applicant：三菱重工業株式会社
• ダイオキシン類分析装置及び燃焼制御システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-303438   Applicant：三菱重工業株式会社
• 化学物質検出装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-385982   Applicant：三菱重工業株式会社
• 二波長光イオン化質量分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-000519   Applicant：三菱重工業株式会社
• 指向性かつ冷却されたガス噴流を発生させるためのガス入口
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-608407   Applicant：ゲーエスエフ-フォルシュングスツェントルムフュアウムヴェルトウントゲズントハイトゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• レーザー光照射によるダイオキシンの高感度簡易分析