露光ヘッド及び露光装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：中島淳 , 加藤和詳 , 西元勝一 , 福田浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003154931
Publication number (International publication number)：2004062156
Application date： May. 30, 2003
Publication date： Feb. 26, 2004
Summary：

【課題】照明手段のレーザー出射部から出射されたレーザビームの利用効率の低下を抑制すると共に、被露光面を所望のスポット径及びスポット形状のビームスポットにより露光する。【解決手段】露光ヘッド166には、第1マイクロレンズ74がDMD50における各マイクロミラーと対応するように2次元的に配列されると共に、アパーチャアレイ76のアパーチャ78が第1マイクロレンズ74の後方焦点位置に2次元的に配列されている。露光ヘッド166では、第1マイクロレンズ74により後方焦点位置に形成される縮小された光源像をレンズ系80,82により被露光面56へ投影し、この光源像をビームスポットBSとして被露光面56を露光する。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

露光面を複数本のレーザビームにより2次元的に露光するための露光ヘッドであって、レーザー出射部からレーザビームを出射する照明手段と、制御信号に応じて光変調状態がそれぞれ変化する複数個の画素部が2次元的に配列され、前記レーザー出射部から入射したレーザビームを前記画素部により露光状態及び非露光状態の何れかに変調する空間光変調素子と、前記空間光変調素子における各画素部の像をそれぞれ結像する第1の光学系と、前記複数個の画素部と対応するように2次元的に配列され、前記複数個の画素部の結像位置にそれぞれ支持される複数の第1のマイクロレンズとを有し、前記第1のマイクロレンズの後方焦点位置に形成される前記レーザー出射部の光源像を前記露光面へ投影し、該光源像をビームスポットとして前記露光面を露光することを特徴とする露光ヘッド。

IPC (7)：

G03F7/20 , G02B3/00 , G02B6/04 , G02B6/42 , G02B27/18 , G03F7/207 , H01L21/027

FI (7)：

G03F7/20 505 , G02B3/00 A , G02B6/04 B , G02B6/42 , G02B27/18 Z , G03F7/207 Z , H01L21/30 529

F-Term (19)：

2H037AA04 , 2H037BA03 , 2H037BA07 , 2H037DA03 , 2H037DA04 , 2H037DA05 , 2H037DA06 , 2H037DA36 , 2H046AA02 , 2H046AA31 , 2H046AA42 , 2H046AD10 , 2H097AA03 , 2H097AB05 , 2H097CA17 , 2H097LA11 , 5F046BA07 , 5F046CA03 , 5F046CB18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

露光ヘッド
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-216093 Applicant：富士写真フイルム株式会社
特開平4-196280
多面反射鏡の製造方法又は反射型照明装置又は半導体露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-267314 Applicant：株式会社ニコン

Show all

Return to Previous Page