水処理システム

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 村松貞男 , 橋本良郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004149075
Publication number (International publication number)：2005329312
Application date： May. 19, 2004
Publication date： Dec. 02, 2005
Summary：

【課題】処理水中のオゾン濃度に対して最適値の過酸化水素を添加、もしくは紫外線を照射することで臭素酸イオンの発生を抑制することができる。【解決手段】本発明は、臭素を含む物質を含有する処理水を蓄える反応槽1と、反応槽に蓄えられた処理水にオゾンを供給するオゾン供給部4と、反応槽に蓄えられた処理水に過酸化水素を供給する過酸化水素供給部11と、オゾン供給部から供給されるオゾンのオゾン濃度を測定するオゾン濃度測定手段15と、過酸化水素供給部から供給される過酸化水素の流入量を測定する過酸化水素流入量測定手段5と、オゾン濃度測定手段によって測定されたオゾン濃度と、過酸化水素流入量測定手段によって測定された過酸化水素の流入量とに基づいて、オゾン濃度と処理水1リットル当たりに添加する過酸化水素量との比が10以下となるように、少なくとも1つのオゾン供給部及び過酸化水素供給部を制御する制御手段10とを具備する水処理システムである。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

臭素を含む物質を含有する処理水を蓄える反応槽と、前記反応槽に蓄えられた処理水にオゾンを供給するオゾン供給部と、前記反応槽に蓄えられた処理水に過酸化水素を供給する過酸化水素供給部と、前記オゾン供給部から供給されるオゾンのオゾン濃度を測定するオゾン濃度測定手段と、前記過酸化水素供給部から供給される過酸化水素の流入量を測定する過酸化水素流入量測定手段と、前記オゾン濃度測定手段によって測定されたオゾン濃度と、前記過酸化水素流入量測定手段によって測定された過酸化水素の流入量とに基づいて、前記オゾン供給部及び前記過酸化水素供給部のうち少なくとも一方を制御する制御手段とを具備し、前記制御手段は、処理水に供給するオゾンでオゾン化ガス1m3あたりのオゾン濃度[g/Nm3]と、処理水1リットル当たりに添加する過酸化水素濃度[mg/L]との比が10以下とすることを特徴とする水処理システム。

IPC (4)：

C02F1/78 , C02F1/32 , C02F1/46 , C02F1/72

FI (5)：

C02F1/78 , C02F1/32 , C02F1/46 Z , C02F1/72 Z , C02F1/72 101

F-Term (20)：

4D037AA11 , 4D037AB14 , 4D037BA18 , 4D037BB01 , 4D037CA12 , 4D050AA12 , 4D050AB44 , 4D050BB02 , 4D050BB09 , 4D050BC09 , 4D050BD02 , 4D050BD06 , 4D050BD08 , 4D050CA13 , 4D061DA08 , 4D061DB09 , 4D061DB19 , 4D061DC13 , 4D061EA02 , 4D061EB04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

水質浄化法および装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-507183 Applicant：アプライドプロセステクノロジー,インコーポレーテッド
オゾン処理方法および処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-094430 Applicant：株式会社クボタ
排水の高度処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-075894 Applicant：三菱電機株式会社, 財団法人エンジニアリング振興協会

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