Pat
J-GLOBAL ID:200903059312419599

シリコン発光ダイオード、シリコン光トランジスタ、シリコンレーザー及びそれらの製造方法。

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 井上 学
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006120065
Publication number (International publication number):2007294628
Application date: Apr. 25, 2006
Publication date: Nov. 08, 2007
Summary:
【解決手段】 本発明による発光素子は、電子を注入する第1の電極部9と、正孔を注入する第2の電極部10と、第1の電極部9及び第2の電極部10と電気的に接続された発光部11,12を備え、発光部11,12を単結晶のシリコンとし、発光部11,12が第1の面(上面)と第1の面に対向する第2の面(下面)を有し、第1及び第2の面の面方位を(100)面とし、第1及び第2の面に直交する方向の発光部の厚さを薄くする。【効果】 本発明によれば、シリコンなどの基板上に通常のシリコン・プロセスを用いて容易に形成可能で、かつ、高効率に発光する発光素子を提供する事ができる。【選択図】 図5H
Claim (excerpt):
電子を注入するための第1の電極と、正孔を注入するための第2の電極と、前記第1及び第2の電極と電気的に接続された発光部を有し、前記第1の電極,前記第2の電極及び前記発光部が同一の単結晶材料から構成されており、前記発光部が薄膜であることを特徴とする発光素子。
IPC (2):
H01L 33/00 ,  H01S 5/22
FI (2):
H01L33/00 A ,  H01S5/22
F-Term (8):
5F041AA03 ,  5F041CA33 ,  5F041CA71 ,  5F041CA73 ,  5F041CA74 ,  5F173AH40 ,  5F173AH48 ,  5F173AR99
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 高効率シリコン発光装置及び変調器
    Gazette classification:公表公報   Application number:特願2003-500977   Applicant:ユニサーチリミテツド
  • シリコン光素子
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-110030   Applicant:日本電信電話株式会社
  • 発光素子及びその製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-291162   Applicant:株式会社日立製作所
Show all

Return to Previous Page