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J-GLOBAL ID:200903059682772727
浄水処理装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
重野 剛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997004556
Publication number (International publication number):1998192851
Application date: Jan. 14, 1997
Publication date: Jul. 28, 1998
Summary:
【要約】【課題】 膜分離処理では除去し得ない低分子微量有機物を除去するためのオゾン処理及び活性炭吸着処理を膜分離処理に組み合せた浄水処理装置において、オゾン処理や活性炭吸着処理を併用することによる濁度の上昇、微生物の発生等の不具合を解消する。【解決手段】 原水を直接オゾン処理する手段1と、オゾン処理水を活性炭吸着処理する流動層式活性炭吸着手段2又は粉末活性炭添加手段と、活性炭処理水を膜分離処理するUF膜分離手段3とを備えてなる浄水処理装置。【効果】 オゾン処理及び活性炭吸着処理で低分子微量有機物を効率的に除去する。活性炭は膜分離手段で除去される。原水のオゾン処理により膜の透過性が改善する。オゾン処理手段と膜分離手段との間に、活性炭吸着処理手段を設けたため、オゾンによる膜の劣化も防止できる。
Claim (excerpt):
浄水源の原水を直接オゾン処理する手段と、該オゾン処理水を活性炭吸着処理する流動層式活性炭吸着手段又は粉末活性炭添加手段と、該活性炭処理水を膜分離処理する限外濾過膜分離手段とを備えてなることを特徴とする浄水処理装置。
IPC (6):
C02F 1/44
, B01D 61/16
, C02F 1/28
, C02F 1/78
, C02F 9/00 502
, C02F 9/00
FI (7):
C02F 1/44 H
, B01D 61/16
, C02F 1/28 D
, C02F 1/78
, C02F 9/00 502 G
, C02F 9/00 502 R
, C02F 9/00 502 H
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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水処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-074988
Applicant:旭化成工業株式会社
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浄水処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-123902
Applicant:栗田工業株式会社
-
浄水給水器の殺菌装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-170829
Applicant:株式会社間組
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イオン整水装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-207454
Applicant:赤井電機株式会社
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