小型化学反応装置の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：花輪義男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002071548
Publication number (International publication number)：2003265951
Application date： Mar. 15, 2002
Publication date： Sep. 24, 2003
Summary：

【要約】【課題】シリコン基板の一面に形成された微小な流路内に触媒層が形成された小型化学反応装置の製造に際し、流路内に触媒層を形成するためのフォトレジストを、流路内に残存される触媒層にダメージを与えることなく、良好に除去する。【解決手段】シリコン基板21の一面に貼り付けられたドライフィルムからなるフォトレジスト31の流路22に対応する部分に開口部32を形成する。次に、流路22内および開口部32内を含むフォトレジスト31の表面に触媒層23を形成する。次に、フォトレジスト31をその表面に形成された不要な部分の触媒層23と共に引き剥がして除去する。すると、フォトレジスト31を、流路22内に残存される触媒層23にダメージを与えることなく、良好に除去することができる。

Claim (excerpt)：

小型の基板の一面に微小な流路を形成し、前記基板の一面にドライフィルムからなるフォトレジストを貼り付け、前記フォトレジストの前記流路に対応する部分に開口部を形成し、前記流路内および前記開口部内を含む前記フォトレジストの表面に触媒層を形成し、前記フォトレジストをその表面に形成された不要な部分の前記触媒層と共に引き剥がして除去することを特徴とする小型化学反応装置の製造方法。

IPC (4)：

B01J 19/24 , B01J 19/08 , C01B 3/32 , H01M 8/06

FI (4)：

B01J 19/24 A , B01J 19/08 H , C01B 3/32 Z , H01M 8/06 A

F-Term (26)：

4G075AA03 , 4G075AA13 , 4G075AA39 , 4G075BA10 , 4G075BB02 , 4G075BC10 , 4G075BD07 , 4G075CA02 , 4G075CA54 , 4G075DA02 , 4G075EA02 , 4G075EA05 , 4G075EB01 , 4G075EC06 , 4G075FA05 , 4G075FB01 , 4G075FB04 , 4G075FB06 , 4G075FC07 , 4G140EA01 , 4G140EA02 , 4G140EA03 , 4G140EA06 , 4G140EB48 , 5H027AA02 , 5H027BA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

液晶表示装置およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-069439 Applicant：シャープ株式会社
セラミック一括積層配線基板及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-089069 Applicant：株式会社日立製作所
薄膜パターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-031240 Applicant：富士通株式会社

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