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J-GLOBAL ID:200903059938284750

電子デバイス材料及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 田治米 登 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996113283
Publication number (International publication number):1997283514
Application date: Apr. 09, 1996
Publication date: Oct. 31, 1997
Summary:
【要約】【課題】 酸化シリコン膜上に有機材料膜が形成された電子デバイス材料の当該酸化シリコン膜と有機材料膜との間の接着性を向上させる。【解決手段】 酸化シリコン膜とその上に形成された有機材料膜とからなる電子デバイス材料において、有機材料膜にシランカップリング剤を含有させる。この電子デバイス材料は、酸化シリコン膜上に、シランカップリング剤とマトリックス樹脂とを含有する有機材料膜形成用組成物を塗布するか、又はシランカップリング剤とマトリックス樹脂とを共蒸着させて有機材料膜を形成することにより製造できる。
Claim (excerpt):
酸化シリコン膜とその上に形成された有機材料膜とからなる電子デバイス材料において、有機材料膜がシランカップリング剤を含有することを特徴とする電子デバイス材料。
IPC (3):
H01L 21/312 ,  C09D183/04 PMT ,  H01L 21/768
FI (4):
H01L 21/312 N ,  H01L 21/312 C ,  C09D183/04 PMT ,  H01L 21/90 S
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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