新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小島隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001124005
Publication number (International publication number)：2002012622
Application date： Apr. 23, 2001
Publication date： Jan. 15, 2002
Summary：

【要約】【解決手段】下記一般式(1)で示されるエステル化合物。【化1】(式中、R1は水素原子、メチル基又はCH2CO2R3を示す。R2は水素原子、メチル基又はCO2R3を示す。R3は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。R4は炭素数5〜20の分岐状又は環状の三級アルキル基を示す。Zは炭素数1〜10の2価の炭化水素基を示す。kは0又は1である。)【効果】本発明の高分子化合物をベース樹脂としたレジスト材料は、高エネルギー線に感応し、感度、解像性、エッチング耐性に優れているため、電子線や遠紫外線による微細加工に有用である。特にArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザーの露光波長での吸収が小さいため、微細でしかも基板に対して垂直なパターンを容易に形成することができるという特徴を有する。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるエステル化合物。【化1】(式中、R1は水素原子、メチル基又はCH2CO2R3を示す。R2は水素原子、メチル基又はCO2R3を示す。R3は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。R4は炭素数5〜20の分岐状又は環状の三級アルキル基を示す。Zは炭素数1〜10の2価の炭化水素基を示す。kは0又は1である。)

IPC (4)：

C08F 32/00 , C08G 61/08 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (4)：

C08F 32/00 , C08G 61/08 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (50)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J032CA34 , 4J032CA35 , 4J032CA36 , 4J032CA43 , 4J032CA45 , 4J032CB01 , 4J032CB03 , 4J032CB04 , 4J032CB05 , 4J032CB12 , 4J032CG01 , 4J032CG06 , 4J100AK32Q , 4J100AL08Q , 4J100AR11P , 4J100AR11Q , 4J100AR21P , 4J100BA02Q , 4J100BA03Q , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA16P , 4J100BA20P , 4J100BC03P , 4J100BC03Q , 4J100BC04P , 4J100BC08P , 4J100BC09P , 4J100BC12P , 4J100BC53Q , 4J100CA01 , 4J100CA03 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-018290 Applicant：ジェイエスアール株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-270685 Applicant：ジェイエスアール株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-074717 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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