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J-GLOBAL ID：200903060416190095

細胞培養支持体とその製造方法

Inventor：
渡辺 正直

About 渡辺 正直

, 
萩原 健一

About 萩原 健一


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (4)： 平木 祐輔 ,  石井 貞次 ,  藤田 節 ,  遠藤 真治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007111757
Publication number (International publication number)：2008263863
Application date： Apr. 20, 2007
Publication date： Nov. 06, 2008
Summary：
【課題】本発明は、細胞シートの剥離が容易で、かつ均一な細胞シートを形成することができる細胞培養支持体を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、環境応答性ポリマーが共有結合により表面に固定化された基材を備える細胞培養支持体において、基材の材料として表面が易接着処理されたポリエチレンテレフタレート、表面がコロナ処理又はプラズマ処理された合成樹脂、表面がアクリル系樹脂により被覆された合成樹脂、共役結合を持つ天然ゴム、共役結合を持つ合成ゴム、ポリシリコンを含有するシリコンゴム、及び微多孔質ポリカーボネートからなる群から選択される少なくとも1種の材料を用いることを特徴とする。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
温度応答性ポリマー、pH応答性ポリマー及びイオン応答性ポリマーからなる群から選択される少なくとも1種の環境応答性ポリマーが共有結合により表面に固定化された基材を備える細胞培養支持体の製造方法であって、放射線照射により重合して前記環境応答性ポリマーを形成し得るモノマーと有機溶媒とを含む組成物を、放射線照射により前記環境応答性ポリマーと共有結合し得る表面を備えた基材に塗布して、前記基材の表面上に塗膜を形成する塗布工程と、前記塗膜に放射線を照射して、前記環境応答性ポリマーを形成する重合反応及び前記環境応答性ポリマーと基材表面とを結合させる結合反応を進行させる放射線照射工程と、前記塗膜を乾燥させる乾燥工程とを含み、前記基材が、表面が易接着処理されたポリエチレンテレフタレート、表面がコロナ処理又はプラズマ処理された合成樹脂、表面がアクリル系樹脂により被覆された合成樹脂、共役結合を持つ天然ゴム、共役結合を持つ合成ゴム、ポリシリコンを含有するシリコンゴム、及び微多孔質ポリカーボネートからなる群から選択される少なくとも1種の材料を含むものである、前記方法。
IPC (2)：
C12M 3/00 ,  C12N 5/06
FI (2)：
C12M3/00 A ,  C12N5/00 E
F-Term (9)：
4B029AA02 ,  4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029CC08 ,  4B029GB09 ,  4B065AA90X ,  4B065BC41 ,  4B065CA44
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (19)
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Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 第11回高分子ゲル研究討論会, 20000127, 第99-100頁
Cited by examiner (1)
  • 第11回高分子ゲル研究討論会, 20000127, 第99-100頁

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