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J-GLOBAL ID：200903060459436420

フォトレジストフィルム

Inventor： 日向 淳悦 ,  藤本 尚彦 ,  小田 通郎
Applicant, Patent owner： 日本合成化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997338100
Publication number (International publication number)：1999160881
Application date： Nov. 21, 1997
Publication date： Jun. 18, 1999
Summary：

【要約】【課題】 感度、解像性、細線密着性、レジストパターンの形成性に非常に優れたフォトレジストフィルムを提供すること。【解決手段】 支持体フィルム(I)/感光性樹脂組成物層(II)/保護フィルム(III)からなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルム(I)として、ポリエステル系樹脂100重量部に対して有機滑剤を0.001〜10重量部含有するポリエステル系樹脂組成物からなるフィルムを用いるフォトレジストフィルム。

Claim (excerpt)：

支持体フィルム(I)/感光性樹脂組成物層(II)/保護フィルム(III)からなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルム(I)として、ポリエステル系樹脂100重量部に対して有機滑剤を0.001〜10重量部含有するポリエステル系樹脂組成物からなるフィルムを用いることを特徴とするフォトレジストフィルム。

IPC (4)：

G03F 7/09 501 ,  B32B 27/36 ,  G03F 7/004 507 ,  G03F 7/027

FI (4)：

G03F 7/09 501 ,  B32B 27/36 ,  G03F 7/004 507 ,  G03F 7/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平1-096640
  
• 特開平2-251854
  
• フォトレジスト用積層ポリエステルフィルム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-132000   Applicant：ダイアホイルヘキスト株式会社
• 感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-067591   Applicant：日本合成化学工業株式会社
• 光重合性樹脂材料及びこれを用いたプリント回路の作成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-149395   Applicant：富士写真フイルム株式会社