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J-GLOBAL ID:200903060845095475
金属微粒子生成用組成物および金属微粒子
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
鍬田 充生
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004130750
Publication number (International publication number):2005314712
Application date: Apr. 27, 2004
Publication date: Nov. 10, 2005
Summary:
【課題】 高い還元性で、簡便にかつ効率よく安定性に優れた金属微粒子(特に金属ナノ粒子)を生成可能な組成物を提供する。【解決手段】 ポリシラン化合物と、還元により前記金属微粒子を生成可能な金属化合物(例えば、貴金属化合物)とで前記組成物を構成する。前記ポリシラン化合物は、ポリシランと、金属化合物及び/又は金属微粒子に対する親和性を有するユニットを含むビニル単量体との共重合体であってもよい。前記金属化合物の割合は、ポリシラン化合物100重量部に対して、例えば、1〜40重量部程度であってもよい。このような組成物に、活性エネルギー線を作用させてポリシラン化合物を分解させることにより、金属微粒子(特にナノ粒子)を生成できる。このような方法は種々の方法に応用でき、例えば、基板に、前記組成物を塗布し、露光して金属微粒子を生成させたのち、さらに、現像し、金属微粒子を含むパターンを形成することもできる。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
金属微粒子を生成するための組成物であって、ポリシラン化合物と、還元により前記金属微粒子を生成可能な金属化合物とで構成された組成物。
IPC (9):
B22F9/24
, B01J19/12
, B22F1/00
, C08K3/10
, C08L83/16
, C09D5/24
, C09D7/12
, C09D183/14
, C09D183/16
FI (9):
B22F9/24 E
, B01J19/12 H
, B22F1/00 K
, C08K3/10
, C08L83/16
, C09D5/24
, C09D7/12
, C09D183/14
, C09D183/16
F-Term (52):
4G075AA24
, 4G075AA27
, 4G075AA32
, 4G075BA05
, 4G075BB08
, 4G075BD26
, 4G075CA32
, 4G075CA33
, 4G075CA57
, 4G075EB31
, 4G075FB02
, 4J002CP011
, 4J002DD026
, 4J002DE016
, 4J002DE166
, 4J002DF036
, 4J002DG026
, 4J002DG046
, 4J002EG006
, 4J002GQ02
, 4J038DL161
, 4J038GA02
, 4J038GA06
, 4J038GA08
, 4J038GA09
, 4J038GA13
, 4J038HA066
, 4J038HA246
, 4J038KA06
, 4J038NA20
, 4J038PA17
, 4J038PB09
, 4J038PC02
, 4J038PC03
, 4J038PC08
, 4K017AA03
, 4K017BA02
, 4K017BA03
, 4K017BA05
, 4K017BA06
, 4K017CA08
, 4K017DA09
, 4K017EF10
, 4K017EJ02
, 4K017FB11
, 4K018BA01
, 4K018BA02
, 4K018BA04
, 4K018BA14
, 4K018BB05
, 4K018BD04
, 4K018BD10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (5)
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特開昭47-042253
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シェル架橋型ミセルを鋳型とする金属ナノ粒子の調製
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-344048
Applicant:科学技術振興事業団
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貴金属コロイド分散層を有する基板及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-092602
Applicant:信越化学工業株式会社
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金属パターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-072814
Applicant:日本ペイント株式会社
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特開昭48-024255
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