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J-GLOBAL ID：200903061286896655

厚膜用ネガ型ホトレジスト組成物、ホトレジスト膜およびこれを用いたバンプ形成方法

Inventor： 斉藤 宏二 ,  三隅 浩一 ,  奥井 俊樹 ,  駒野 博司
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 曾我 道照 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002110282
Publication number (International publication number)：2003043688
Application date： Apr. 12, 2002
Publication date： Feb. 13, 2003
Summary：

【要約】【課題】 高感度で、メッキ耐性が良好である上に、バンプ形成用材料として好適な厚膜形成に適する厚膜用ネガ型ホトレジスト組成物、ホトレジスト膜およびこれを用いたバンプ形成方法を提供すること。【解決手段】 (A)ノボラック樹脂、(B)可塑剤、(C)架橋剤、および(D)酸発生剤を含有することを特徴とする厚膜用ネガ型ホトレジスト組成物と、該組成物を基材上に塗布、乾燥してなる膜厚5〜100μmのホトレジスト膜。さらに該組成物を電子部品の基板上に塗布し、パターニングし、メッキ処理を行うバンプ形成方法。

Claim (excerpt)：

(A)ノボラック樹脂、(B)可塑剤、(C)架橋剤、および(D)酸発生剤を含有することを特徴とする厚膜用ネガ型ホトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/60

FI (5)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/92 604 B ,  H01L 21/92 604 S

F-Term (16)：

2H025AA01 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CC05 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• カラーフィルター用レジスト組成物及びカラーフィルターの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-190620   Applicant：三菱化学株式会社
• パターン形成方法およびこれに用いるネガ型ホトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-093073   Applicant：東京応化工業株式会社
• 感光性樹脂組成物、感光性樹脂膜およびこれを用いたバンプ形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-057022   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物及びそれに用いる酸発生剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-171108   Applicant：東京応化工業株式会社
• 高感度で高レジスト厚さのi線ホトレジスト用スルホニルオキシム類
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-231201   Applicant：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド
• 感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-334348   Applicant：ジェイエスアール株式会社