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J-GLOBAL ID：200903061460409963

陽極酸化ポーラスアルミナ複合体及びその製造方法

Inventor：
益田 秀樹

About 益田 秀樹

, 
西尾 和之

About 西尾 和之

, 
安井 賢志

About 安井 賢志

, 
森川 卓哉

About 森川 卓哉


Applicant, Patent owner：
財団法人神奈川科学技術アカデミー

About 財団法人神奈川科学技術アカデミー


Agent (1)： 伴 俊光
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003004072
Publication number (International publication number)：2004217961
Application date： Jan. 10, 2003
Publication date： Aug. 05, 2004
Summary：
【課題】陽極酸化ポーラスアルミナ細孔内に真空蒸着法により他物質を充填するに際し、高アスペクト比の充填構造を簡便に、かつ、安価に達成可能とした、陽極酸化ポーラスアルミナ複合体及びその製造方法を提供する。【解決手段】陽極酸化ポーラスアルミナの細孔内に他物質を充填して複合体を製造する方法において、エッチング処理により少なくとも細孔の開口部を拡径した後、細孔内に真空蒸着により他物質を充填することを特徴とする、陽極酸化ポーラスアルミナ複合体の製造方法、及びその方法により製造された陽極酸化ポーラスアルミナ複合体。【選択図】 図4
Claim (excerpt)：
陽極酸化ポーラスアルミナの細孔内に他物質を充填して複合体を製造する方法において、エッチング処理により少なくとも細孔の開口部を拡径した後、細孔内に真空蒸着により他物質を充填することを特徴とする、陽極酸化ポーラスアルミナ複合体の製造方法。
IPC (12)：
C25D11/24 ,  C23C14/14 ,  C23C14/24 ,  C25D11/04 ,  C25D11/12 ,  C25D11/18 ,  C25D11/32 ,  G11B5/64 ,  G11B5/65 ,  G11B5/73 ,  G11B5/84 ,  G11B5/85
FI (13)：
C25D11/24 302 ,  C23C14/14 A ,  C23C14/14 D ,  C23C14/24 P ,  C25D11/04 B ,  C25D11/12 Z ,  C25D11/18 Z ,  C25D11/32 ,  G11B5/64 ,  G11B5/65 ,  G11B5/73 ,  G11B5/84 Z ,  G11B5/85 A
F-Term (19)：
4K029AA07 ,  4K029AA29 ,  4K029BA06 ,  4K029BA12 ,  4K029BA35 ,  4K029BC06 ,  4K029CA01 ,  4K029DA01 ,  4K029FA02 ,  5D006BB01 ,  5D006BB07 ,  5D006CB04 ,  5D112AA02 ,  5D112AA05 ,  5D112BA06 ,  5D112BA09 ,  5D112BB01 ,  5D112FA02 ,  5D112GA29
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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