Pat
J-GLOBAL ID:200903062362312893
ナノ構造体及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
渡辺 敬介 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000093129
Publication number (International publication number):2001009800
Application date: Mar. 30, 2000
Publication date: Jan. 16, 2001
Summary:
【要約】【課題】 発光デバイス、光デバイス、磁性デバイス、マイクロデバイスなどの機能材料として、広い範囲で利用可能な細孔を有するナノ構造体を提供する。【解決手段】 アルミニウムを陽極酸化することで作成される細孔体を具備するナノ構造体において、細孔径の異なる少なくとも2種類以上の細孔(3,5)を有することを特徴とする。
Claim (excerpt):
複数種類の細孔を有する陽極酸化膜を具備することを特徴とするナノ構造体。
IPC (5):
B82B 1/00
, B82B 3/00
, C25D 11/04 302
, C25D 11/20 302
, H01S 3/16
FI (5):
B82B 1/00
, B82B 3/00
, C25D 11/04 302
, C25D 11/20 302
, H01S 3/16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
-
陽極酸化皮膜及びそれを形成させる方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-078207
Applicant:亀山秀雄
-
多孔性陽極酸化アルミナ膜の作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-229314
Applicant:日本電信電話株式会社
-
特開昭59-031801
-
ナノ構造体とその製造方法、電子放出素子及びカ-ボンナノチュ-ブデバイスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-047540
Applicant:キヤノン株式会社
-
磁気記録媒体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-023179
Applicant:日本電信電話株式会社, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
-
ナノ構造体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-276427
Applicant:キヤノン株式会社
-
アルミニウム板の粗面化方法および粗面化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-192202
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
微細孔を有するアルミナ膜及びその製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-175358
Applicant:財団法人ファインセラミックスセンター
-
量子効果装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-230837
Applicant:株式会社東芝
-
結晶質酸化アルミニウム薄膜体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-027426
Applicant:ぺんてる株式会社
Show all
Return to Previous Page