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J-GLOBAL ID：200903061590320298

水処理用担体、水処理用担体の製造方法および水処理用装置

Inventor：
小要 広行

About 小要 広行

, 
宮坂 章

About 宮坂 章

, 
中林 正章

About 中林 正章


Applicant, Patent owner：
武田薬品工業株式会社

About 武田薬品工業株式会社


Agent (1)： 岡本 寛之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000019793
Publication number (International publication number)：2001205287
Application date： Jan. 28, 2000
Publication date： Jul. 31, 2001
Summary：
【要約】【課題】 気泡の付着が少なく、流動性などが良好で、水処理効率の向上を図ることのできる、水処理用担体、その水処理用担体の製造方法、および、その水処理用担体が用いられる水処理用装置を提供すること。【解決手段】 水処理用担体の表面を、スキン層によって形成するとともに、その内部を多孔質化する。スキン層とすることで、例えば、この水処理用担体を流動床として用いても、その表面に、槽内において発生する微細な気泡が付着したり、あるいは、付着した微生物により生成されるガスが、そのまま担体に付着することが少なく、余分な浮力が与えられることに起因する流動性の低下を防止することができる。また、その内部が多孔質とされるので、空孔率を適宜選択することにより、その比重を調整して流動性の向上を図ることができる。
Claim (excerpt)：
表面にスキン層を有し、かつ、その内部が多孔質であることを特徴とする、水処理用担体。
IPC (5)：
C02F 3/10 ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/08 ,  C02F 3/34 101 ,  C02F 3/34
FI (5)：
C02F 3/10 Z ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/08 B ,  C02F 3/34 101 D ,  C02F 3/34 101 B
F-Term (16)：
4D003AA13 ,  4D003DA14 ,  4D003EA01 ,  4D003EA14 ,  4D003EA15 ,  4D003EA19 ,  4D003EA22 ,  4D003EA24 ,  4D003EA25 ,  4D003EA26 ,  4D003EA30 ,  4D003EA38 ,  4D003EA40 ,  4D003FA10 ,  4D040BB52 ,  4D040BB82
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (19)
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Cited by examiner (20)
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