Pat
J-GLOBAL ID:200903061655936712
軸方向高解像度を有する走査型顕微鏡方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
河野 登夫 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000589987
Publication number (International publication number):2002533686
Application date: Dec. 21, 1999
Publication date: Oct. 08, 2002
Summary:
【要約】【課題】 測定ボリューム(70)に関する補助焦点(71)の位置が規定された方法により調整できる。【解決手段】 基板(60)上に配置された少なくとも一つの検体を光学的に検出する方法に関する。少なくとも一つの検体は、少なくとも一つの放射源(10)および少なくとも一組の共焦点型光学系(32)または多光子励起用に構成された一組の光学系(32)を使用して測定ボリューム(70)で走査される。補助焦点(71)が、少なくとも一つの放射源(11)および少なくとも一組の光学系(34)を使用して走査プロセスの前および/またはその間に発生される。補助焦点は、基板(60)と近接する構成部品との間の接触表面(62)上に、または検体に関して規定された空間関係に位置された別の接触表面(62)上に少なくとも部分的に存在する。補助焦点(71)からの再帰反射は、少なくとも一つの検出器(21)により共焦点型の方法で検出され、接触表面(62)の位置を測定するために使用され、測定ボリューム(70)を間接的に位置決めするために使用される。
Claim (excerpt):
少なくとも一つの検体を光学的に検出する方法であって、 少なくとも一つの検体が基板(60)上及び/又は内に配置され、前記基板(60)は支持体(61)上に好ましく配置されると共に、基板(60)に近接する少なくとも一つの構成部品の一つとは異なる屈折率を有し、 少なくとも一つの検体は共焦点型または多光子励起用に構成された少なくとも一つのデバイスを使用して測定ボリューム(70)で走査され、前記デバイスは放射源(10)と少なくとも一つの対物レンズ(32)とからなり、それによって少なくとも一つの検体の特徴付けのための信号処理によって処理される光学的パラメータの測定値を受け取り、 少なくとも一つの検体は測定値取得の間、実質的に基板(60)または支持体(61)またはその両方に対してその位置を維持し、 走査プロセスの前及び/又はその間、補助焦点(71)は少なくとも一つの第2放射源(11)と対物レンズ(34)とによって発生され、前記補助焦点(71)は基板(60)と近接する構成部品との間のインタフェイス(62)上または前記検体への規定された空間関係を有する他のインタフェイス(62)上に少なくとも部分的に配置され、 補助焦点(71)からの再帰反射は、共焦点配置された検出器(21)、または像平面の前方及び/又は後方でしかも補助焦点(71)を発生する光学系(34)の光軸に沿って配置された複数の検出器(21、22)によって検出され、前記再帰反射はインタフェイス(62)の位置の測定及びこのようにして測定ボリューム(70)の間接的な位置決めに使用され、 測定ボリューム(70)に対する補助焦点(71)の位置は規定された方法で調節されまたは調節可能であること を特徴とする少なくとも一つの検体を光学的に検出する方法。
IPC (7):
G01B 11/24
, G01N 21/17 625
, G01N 21/47
, G01N 21/64
, G01N 21/65
, G01N 33/483
, G02B 21/00
FI (11):
G01N 21/17 625
, G01N 21/47 Z
, G01N 21/64 A
, G01N 21/64 B
, G01N 21/64 E
, G01N 21/64 F
, G01N 21/64 Z
, G01N 21/65
, G01N 33/483 C
, G02B 21/00
, G01B 11/24 A
F-Term (88):
2F065AA06
, 2F065FF44
, 2F065GG05
, 2F065GG06
, 2F065JJ05
, 2F065JJ18
, 2F065LL02
, 2F065LL30
, 2F065PP24
, 2F065QQ03
, 2F065TT02
, 2G043AA03
, 2G043BA14
, 2G043BA16
, 2G043BA17
, 2G043CA03
, 2G043DA02
, 2G043EA01
, 2G043EA02
, 2G043EA03
, 2G043FA01
, 2G043FA02
, 2G043FA03
, 2G043FA06
, 2G043GA04
, 2G043GB19
, 2G043HA01
, 2G043HA05
, 2G043HA09
, 2G043JA03
, 2G043KA02
, 2G043KA05
, 2G043KA07
, 2G043KA09
, 2G043LA01
, 2G043LA02
, 2G043NA02
, 2G043NA05
, 2G045CB01
, 2G045CB21
, 2G045DA36
, 2G045FA11
, 2G045FA14
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, 2G045FA28
, 2G045FB12
, 2G045GC11
, 2G059AA05
, 2G059BB04
, 2G059BB12
, 2G059BB14
, 2G059CC01
, 2G059CC12
, 2G059CC16
, 2G059DD03
, 2G059DD13
, 2G059EE03
, 2G059EE05
, 2G059EE07
, 2G059FF02
, 2G059FF03
, 2G059FF04
, 2G059FF12
, 2G059GG01
, 2G059GG02
, 2G059GG03
, 2G059GG10
, 2G059HH02
, 2G059HH06
, 2G059JJ03
, 2G059JJ11
, 2G059JJ17
, 2G059KK01
, 2G059KK02
, 2G059KK03
, 2G059LL01
, 2G059MM02
, 2G059MM04
, 2G059MM09
, 2H052AA08
, 2H052AA09
, 2H052AB24
, 2H052AC04
, 2H052AC18
, 2H052AC26
, 2H052AC34
, 2H052AF02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
レーザ走査顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-294107
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
ポリヌクレオチド検出法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-091264
Applicant:株式会社日立製作所
-
光学測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-320897
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
コンフォーカル顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-156370
Applicant:株式会社ニコン
-
微弱光検出方法および微弱光検出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-343853
Applicant:株式会社分子バイオホトニクス研究所
-
レーザ走査顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-049881
Applicant:株式会社ニコン
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