雰囲気プラズマ表面処理方法およびそれを実行するための装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (8)：岡部正夫 , 加藤伸晃 , 産形和央 , 臼井伸一 , 越智隆夫 , 本宮照久 , 朝日伸光 , 三山勝巳
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003581555
Publication number (International publication number)：2005528737
Application date： Mar. 28, 2003
Publication date： Sep. 22, 2005
Summary：

本発明は、プラズマ発生器を使用して少なくとも2つのプラズマ・ジェットを発生させることにある雰囲気プラズマ表面処理方法に関し、前記プラズマ・ジェットは雰囲気のガス環境よりも低いイオン化エンタルピーを有するガスもしくは流入ガス混合物の流れの中で放電によって作り出される。本発明の方法は、電極として作用する前述のプラズマ・ジェット間に配置される放電ゾーンが非自立性であり、かつ表面を処理するために使用される活性ガスによって主に構成されるプラズマを発生させることを特徴とし、電場の強度Eが次の条件、すなわち(JnQ/e)input gas≦E≦(JnQ/e)ambient gasを満足させる放電を作り出し、ここでJはガス粒子活性化エネルギーであり、nは前記ガスの粒子密度であり、Qは電子とガスの粒子の弾性衝突の実効断面であり、eは電子の電荷である。

Claim (excerpt)：

雰囲気プラズマによって表面を処理する方法において、プラズマ発生器を使用して少なくとも2つのプラズマ・ジェットを発生させる工程を含み、プラズマ・ジェットが、雰囲気のガス状媒質よりも低いイオン化エンタルピーを有するキャリヤ・ガスもしくはキャリヤ・ガス混合物の流れの中で放電によって作り出される方法であって、電極として機能する前記プラズマ・ジェット間に配置された放電のゾーンが非自立性であり、かつ表面を処理するための活性ガスで主に構成されるプラズマを発生させ、放電を作り出す電場の強度Eが条件、すなわち (JnQ/e)キャリヤ・ガス≦E≦(JnQ/e)雰囲気ガスを満足させ、ここでJはガス粒子の活性化のエネルギーであり、 nはこのガスの粒子密度であり、 Qは電子とこのガスの粒子の弾性衝突の実効断面であり、 eは電子の電荷であることを特徴とする方法。

IPC (3)：

H05H1/32 , A61B18/00 , H05H1/44

FI (3)：

H05H1/32 , H05H1/44 , A61B17/36

F-Term (3)：

4C060KK47 , 4C060MM22 , 4C060MM24

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

国際特許出願WO97/22369
欧州特許出願EP0279745

Cited by examiner (8)

大気圧吹き出し型プラズマ反応装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-272853 Applicant：小駒益弘, 岡崎幸子
成膜装置及び方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-046628 Applicant：株式会社荏原製作所, 畑村洋太郎
大気圧プラズマによる表面処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-002937 Applicant：パール工業株式会社

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