ノルボルネン系化合物、ケイ素含有化合物、ポリシロキサンおよび感放射線性樹脂組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002273899
Publication number (International publication number)：2004107277
Application date： Sep. 19, 2002
Publication date： Apr. 08, 2004
Summary：

【課題】波長200nm以下の放射線に対する透明性が高く、解像度に優れ、アルカリ現像液に対する溶解性の制御が容易なレジストの樹脂成分等として有用な、含フッ素ノルボルナン骨格を有する新規ポリシロキサン、該ポリシロキサンの合成原料ないし中間体等として有用な新規ケイ素含有化合物および新規ノルボルネン系化合物、並びに該ポリシロキサンを含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】ノルボルネン系化合物は5-ヘプタフルオロプロポキシ-5,6,6-トリフルオロビシクロ[ 2.2.1 ]ヘプト-2-エン等に代表され、ケイ素含有化合物は5-ヘプタフルオロプロポキシ-5,6,6-トリフルオロビシクロ[ 2.2.1 ]ヘプチル・トリエトキシシラン等に代表される。ポリシロキサンは該ケイ素含有化合物に由来する構造単位を有し、感放射線性樹脂組成物は該ポリシロキサンおよび感放射線性酸発生剤を含有する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記一般式(α)で表されるノルボルネン系化合物。

IPC (8)：

C07C43/192 , C07C43/196 , C07F7/12 , C07F7/18 , C08G77/14 , C08G77/24 , G03F7/039 , H01L21/027

FI (10)：

C07C43/192 , C07C43/196 , C07F7/12 R , C07F7/18 E , C07F7/18 F , C07F7/18 G , C08G77/14 , C08G77/24 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

F-Term (41)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB33 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB46 , 4H006AB84 , 4H006GP02 , 4H049VN01 , 4H049VP01 , 4H049VQ10 , 4H049VQ12 , 4H049VQ17 , 4H049VQ21 , 4H049VR21 , 4H049VR33 , 4H049VR43 , 4H049VU20 , 4J035BA14 , 4J035CA01 , 4J035CA051 , 4J035CA091 , 4J035CA152 , 4J035CA192 , 4J035CA301 , 4J035EA01 , 4J035EB10 , 4J035LB16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

フッ素化ポリマー
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2004-503516 Applicant：ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド
フッ素化された分子並びに、その製造及び使用法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2003-571798 Applicant：ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド
特開平2-004722