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J-GLOBAL ID：200903061845166603

堆積膜形成方法およびこれに用いるマスク、並びに有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル

Inventor：
石塚 真一

About 石塚 真一


Applicant, Patent owner：
パイオニア株式会社

About パイオニア株式会社


Agent (1)： 石川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001248306
Publication number (International publication number)：2003064467
Application date： Aug. 17, 2001
Publication date： Mar. 05, 2003
Summary：
【要約】【課題】 所期の形状の堆積膜を容易にかつ簡単な工程において形成することのできる堆積膜形成方法およびこれに用いるマスクを提供する。【解決手段】 基板上若しくはその基板に形成された積層構造体上に、開口部を有するマスクを配置して、基板若しくは積層構造体上の選択位置に、堆積膜を形成する方法において、前記マスクの基板若しくは積層構造体に対する対向面に、前記開口部以外の実部の任意部分より略垂直方向に突出する脚部を設け、マスク配置時に、マスクの基板対向面全体が、基板若しくは積層構造体に接触することを防止したことを特徴とする堆積膜の形成方法。
Claim (excerpt)：
基板上若しくはその基板に形成された積層構造体上に、開口部を有するマスクを配置して、基板若しくは積層構造体上の選択位置に、堆積膜を形成する方法において、前記マスクの基板若しくは積層構造体に対する対向面に、前記開口部以外の実部の任意部分より略垂直方向に突出する脚部を設け、マスク配置時に、マスクの基板対向面全体が、基板若しくは積層構造体に接触することを防止したことを特徴とする堆積膜の形成方法。
IPC (7)：
C23C 14/04 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22
FI (7)：
C23C 14/04 A ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 Z
F-Term (37)：
3K007AB04 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BD00 ,  4K029HA01 ,  4K029HA03 ,  5C094AA08 ,  5C094AA42 ,  5C094AA43 ,  5C094AA48 ,  5C094BA12 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094DB01 ,  5C094DB04 ,  5C094EA05 ,  5C094EB02 ,  5C094FA01 ,  5C094FA02 ,  5C094FB01 ,  5C094FB20 ,  5C094GB10 ,  5G435AA04 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435HH20 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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