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J-GLOBAL ID:200903061969745067
プラズマ発生用アンテナ装置及びプラズマ処理装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
小川 信一
, 野口 賢照
, 斎下 和彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003147712
Publication number (International publication number):2004349199
Application date: May. 26, 2003
Publication date: Dec. 09, 2004
Summary:
【課題】プラズマ生成に用いられる電波の1/4波長程度、あるいは波長程度のサイズの金属容器中にて、柱状アンテナを共振させてプラズマを効率よく発生できるプラズマ発生用アンテナ装置及びプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】表面を誘電体21bで覆った柱状の導電体21aからなる複数のアンテナ素子21を交互に給電方向を逆にして平行に配置した面状のアンテナ20を備えたプラズマ発生用アンテナ装置において、通気性を有する導電体で形成された面状のグランド22を、前記アンテナ20と平行に配設する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
表面を誘電体で覆った柱状の導電体からなる複数のアンテナ素子を、交互に給電方向を逆にして平行に配置した面状のアンテナを備えたプラズマ発生用アンテナ装置において、通気性を有する導電体で形成された面状のグランドを、前記アンテナと平行に配設したことを特徴とするプラズマ発生用アンテナ装置。
IPC (3):
H05H1/46
, H01L21/205
, H01L21/3065
FI (4):
H05H1/46 L
, H05H1/46 B
, H01L21/205
, H01L21/302 101D
F-Term (26):
4K030FA03
, 4K030JA03
, 4K030JA08
, 4K030JA18
, 4K030KA14
, 4K030KA16
, 4K030KA47
, 5F004AA01
, 5F004AA16
, 5F004BA20
, 5F004BB18
, 5F004BB32
, 5F004BC08
, 5F004BD04
, 5F004CA06
, 5F045AA08
, 5F045AB02
, 5F045AC01
, 5F045BB02
, 5F045DP03
, 5F045DQ10
, 5F045EF05
, 5F045EH02
, 5F045EH05
, 5F045EH20
, 5F045EJ05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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大面積プラズマ生成用アンテナ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-280285
Applicant:三井造船株式会社
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エッチング装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-207222
Applicant:日本真空技術株式会社
-
化学的気相成長装置、化学的気相成長方法および化学的気相成長装置のクリーニング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-097218
Applicant:ソニー株式会社
-
プラズマリアクター
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-263157
Applicant:ケーイーエム株式会社
-
同軸形のマイクロ波プラズマ発生器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-354868
Applicant:杉山和夫, ミクロ電子株式会社
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