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J-GLOBAL ID：200903062059848896

基板処理装置

Inventor：
松永 正隆

About 松永 正隆

, 
宮田 亮

About 宮田 亮

, 
道木 裕一

About 道木 裕一


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 大森 純一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001186075
Publication number (International publication number)：2003007587
Application date： Jun. 20, 2001
Publication date： Jan. 10, 2003
Summary：
【要約】【課題】 露光処理が行われてから加熱処理が行われるまでの時間を一定に保ち、基板上に形成される回路パターンの線幅を一定に保つことができる基板処理装置の提供。【解決手段】 ウエハWが露光装置203におけるアウトステージ203b→ウエハ搬送体206→受け渡しユニットTRS→ウエハ搬送体204→ポストエクスポージャーベーキングユニット(PEB)の温調・搬送装置C→ポストエクスポージャーベーキングユニット(PEB)の熱処理装置Hに至るまでの時間Tがほぼ一定となるような時間制御を行っている。
Claim (excerpt)：
基板に対して少なくとも現像処理を行う基板処理装置において、露光装置により露光され、現像処理前の基板を加熱処理する加熱処理部と、前記加熱処理部と前記露光装置との間に配置され、前記加熱処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うインタフェース部と、前記露光装置から受け渡された基板を、前記インタフェース部を介して前記加熱処理部に搬送し、前記加熱処理部により基板の加熱処理を開始するまでの時間がほぼ一定となるように制御する制御手段とを具備することを特徴とする基板処理装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68
FI (3)：
G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 568
F-Term (51)：
2H096AA25 ,  2H096FA01 ,  2H096FA10 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031DA01 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA04 ,  5F031GA36 ,  5F031GA42 ,  5F031GA44 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA13 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA57 ,  5F031HA59 ,  5F031HA60 ,  5F031JA01 ,  5F031JA05 ,  5F031JA22 ,  5F031JA27 ,  5F031JA32 ,  5F031LA13 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA04 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA33 ,  5F031NA02 ,  5F031NA09 ,  5F031NA17 ,  5F031NA18 ,  5F031PA03 ,  5F031PA11 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046KA04 ,  5F046KA07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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