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J-GLOBAL ID：200903062081629782

液晶素子製造用ポジ型ホトレジスト塗布液及びそれを用いた基材

Inventor： 加藤 哲也 ,  越山 淳
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998358912
Publication number (International publication number)：2000181055
Application date： Dec. 17, 1998
Publication date： Jun. 30, 2000
Summary：

【要約】【課題】 ストリエーション、乾燥むら及び滴下跡をバランスよく制御する液晶素子用ポジ型ホトレジスト塗布液を提供する。【解決手段】 (a)アルカリ可溶性樹脂、(b)キノンジアジド基含有化合物及び(c)フッ素含有量が10〜25重量%であり、かつケイ素含有量が3〜10重量%の非イオン性フッ素・ケイ素系界面活性剤を(d)有機溶媒に溶解してなる液晶素子製造用ポジ型ホトレジスト塗布液。これを塗布した基材も記述される。

Claim (excerpt)：

(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)キノンジアジド基含有化合物及ぴ(c)フッ素含有量が10〜25重量%であり、かつケイ素含有量が3〜10重量%の非イオン性フッ素・ケイ素系界面活性剤を(d)有機溶媒に溶解してなる液晶素子製造用ポジ型ホトレジスト塗布液。

IPC (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504

FI (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504

F-Term (7)：

2H025AA00 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB52 ,  2H025CC04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• ポジ型ホトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-166618   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型ホトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-144437   Applicant：東京応化工業株式会社
• フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-196882   Applicant：三菱化学株式会社