Pat
J-GLOBAL ID：200903065477908403

フォトレジスト組成物

Inventor：
西 峰雄

About 西 峰雄

, 
中野 浩二

About 中野 浩二

, 
楠本 ▲匡▼

About 楠本 ▲匡▼


Applicant, Patent owner：
三菱化学株式会社

About 三菱化学株式会社


Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994196882
Publication number (International publication number)：1996062834
Application date： Aug. 22, 1994
Publication date： Mar. 08, 1996
Summary：
【要約】【目的】 消泡性が良く、塗布ムラ及び塗れ残りが発生しないフォトレジスト組成物を提供する。【構成】 フォトレジスト溶媒中での臨界ミセル濃度に於ける表面張力が15dyn/cm以上24.5dyn/cm以下であるフッ素系界面活性剤、又は、非イオン性基、アニオン性基及びカチオン性基から選ばれる少なくとも1種の基、フッ素化アルキル基並びにシリコーン基を含有する重合体からなるフッ素系界面活性剤を含有するフォトレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
フォトレジスト溶媒中での臨界ミセル濃度における表面張力が15dyn/cm以上24.5dyn/cm以下であるフッ素系界面活性剤を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/004 504 ,  B01F 17/00 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
  • 液状レジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-342907   Applicant：松下電工株式会社
  • 特開平3-030825
  • 特開平4-222805
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM