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J-GLOBAL ID:200903062261180767
銅微粒子の製造方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
細井 勇
, 中 敦士
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007077354
Publication number (International publication number):2008231564
Application date: Mar. 23, 2007
Publication date: Oct. 02, 2008
Summary:
【課題】粒径が小さく、粒度分布が比較的狭く、分散安定性に優れかつデンドロイト化が抑制された銅微粒子を、簡便な方法でかつ大量に生成することのできる金属微粒子の製造方法を提供する。【解決手段】少なくとも、銅イオン、ハロゲンイオン、及び有機物分散媒が溶解している還元反応溶液において、銅イオンの還元反応により粒子径が1〜500nmの範囲にある銅微粒子を析出させることを特徴とする、銅微粒子の製造方法【選択図】なし
Claim (excerpt):
少なくとも、銅イオン、ハロゲンイオン、及び有機物分散媒が溶解している還元反応溶液において、銅イオンの還元反応により粒子径が1〜500nmの範囲にある銅微粒子を析出させることを特徴とする、銅微粒子の製造方法。
IPC (3):
C25C 1/12
, B22F 9/24
, C25C 5/02
FI (3):
C25C1/12
, B22F9/24 B
, C25C5/02
F-Term (19):
4K017AA03
, 4K017AA06
, 4K017BA05
, 4K017CA01
, 4K017CA08
, 4K017DA01
, 4K017DA07
, 4K017EJ02
, 4K017FB07
, 4K058AA01
, 4K058BA21
, 4K058BA37
, 4K058BB04
, 4K058CA05
, 4K058CA09
, 4K058EB03
, 4K058EB12
, 4K058EB13
, 4K058FA04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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銅超微粒子とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-176164
Applicant:住友電気工業株式会社
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金属ナノ粒子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-013160
Applicant:住友大阪セメント株式会社
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銅ナノ粒子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-097982
Applicant:隅山兼治, 葛谷俊博
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Cited by examiner (4)