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J-GLOBAL ID:200903062499124741
配線材料及びそれを用いた導体配線層
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999165305
Publication number (International publication number):2000353762
Application date: Jun. 11, 1999
Publication date: Dec. 19, 2000
Summary:
【要約】【課題】耐エレクトロマイグレーション性を有し、かつ、配線抵抗が小さく導電性の優れた配線材料及びそれを用いた半導体集積回路の導体配線層を提供する。【解決手段】半導体集積回路の配線層に使用される配線材料であって、前記配線材料が銅に金を添加した銅合金からなることを特徴とする配線材料。
Claim (excerpt):
半導体集積回路の配線層に使用される配線材料であって、前記配線材料が銅に金を添加した銅合金からなることを特徴とする配線材料。
IPC (2):
FI (2):
H01L 23/12 L
, H01L 23/14 M
Patent cited by the Patent:
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