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J-GLOBAL ID:200903062819675121
分光分析装置、分光分析方法、およびプログラム
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
布施 行夫
, 大渕 美千栄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004351691
Publication number (International publication number):2006162348
Application date: Dec. 03, 2004
Publication date: Jun. 22, 2006
Summary:
【課題】 広範囲において精度良く短時間で、分光法による分光分析を行うことのできる分光分析装置、分光分析方法、およびコンピュータ用のプログラムを提供する。【解決手段】 本発明にかかる分光分析装置1000は、分光法により試料のスペクトルを測定する分光分析装置であって、試料のスペクトルを測定する測定部100と、試料300において、少なくとも、第1の測定領域と、前記第1の測定領域の一部を含む第2の測定領域とを前記測定部に測定させる測定制御部10と、少なくとも、前記第1の測定領域を測定した測定値と、前記第2の測定領域を測定した測定値とに基づいて、前記第1の測定領域と前記第2の測定領域との共通領域の測定結果を算出する算出部18と、を含む。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
分光法により試料のスペクトルを測定する分光分析装置であって、
試料のスペクトルを測定する測定部と、
試料において、少なくとも、第1の測定領域と、前記第1の測定領域の一部を含む第2の測定領域とを前記測定部に測定させる測定制御部と、
少なくとも、前記第1の測定領域を測定した測定値と、前記第2の測定領域を測定した測定値とに基づいて、前記第1の測定領域と前記第2の測定領域との共通領域の測定結果を算出する算出部と、
を含む、分光分析装置。
IPC (2):
FI (3):
G01N21/27 A
, G01N21/27 E
, G01N21/35 Z
F-Term (10):
2G059AA01
, 2G059EE12
, 2G059FF01
, 2G059FF03
, 2G059HH01
, 2G059KK03
, 2G059KK04
, 2G059MM01
, 2G059MM03
, 2G059PP04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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パラジウム・銀合金めっき浴
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-171382
Applicant:日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社
Cited by examiner (5)
-
光学的試料分析装置及び方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平6-519241
Applicant:イー-ワイラボラトリーズインコーポレーテッド
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特開平4-061142
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赤外顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-018077
Applicant:株式会社島津製作所
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