水素発生装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998184723
Publication number (International publication number)：2000017471
Application date： Jun. 30, 1998
Publication date： Jan. 18, 2000
Summary：

【要約】【課題】エネルギー源として水素を用いるために、メタンガスから低温で、しかも電力消費を極端に少なくした電解水素の製造装置を提供する。【解決手段】隔膜1によって陽極室と陰極室に分離され、酸性電解液15を用いて陰極2より水素を発生させる水素発生装置において、陽極3としてメタンガス16を供給するガス拡散電極3を使用し、三次元的な広がりを有する活性化陰極である多孔性の陰極2を隔膜1に密着させ、隔膜1とガス拡散電極3との間にガス抜き用の整流板としてスペーサー7を設け、両電極間に電解液15を供給するように形成している。

Claim (excerpt)：

隔膜によって陽極室と陰極室に分離され、酸性電解液を用いて陰極より水素を発生させる水素発生装置において、陽極としてメタンガスを供給するガス拡散電極を使用し、多孔性の陰極を隔膜に密着させ、電解液を電極間に供給するように形成していることを特徴とする水素発生装置。

IPC (2)：

C25B 1/02 , C25B 11/03

FI (2)：

C25B 1/02 , C25B 11/03

F-Term (20)：

4K011AA04 , 4K011AA21 , 4K011AA31 , 4K011AA69 , 4K011DA01 , 4K021AA01 , 4K021AB25 , 4K021BA04 , 4K021BB01 , 4K021BB04 , 4K021BB05 , 4K021CA11 , 4K021DB16 , 4K021DB18 , 4K021DB19 , 4K021DB21 , 4K021DB28 , 4K021DB31 , 4K021DB46 , 4K021DC03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開昭62-139889
特開昭62-240777
特開昭63-229122

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