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J-GLOBAL ID:200903063123749666
半導体レーザ装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
福島 祥人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995196460
Publication number (International publication number):1997045990
Application date: Aug. 01, 1995
Publication date: Feb. 14, 1997
Summary:
【要約】【課題】 簡単な構造で良好な特性を実現しつつ自励発振を安定して得ることができる半導体レーザ装置を提供することである。【解決手段】 p-クラッド層5の平坦部5a上およびリッジ部5bの側面に、p-クラッド層5とほぼ等しい屈折率を有するn-第1電流ブロック層7を形成し、n-第1電流ブロック層7上にp-クラッド層5と異なる屈折率を有するn-第2電流ブロック層8を形成する。それにより、p-クラッド層5のリッジ部5bの領域に電流注入領域を形成し、p-クラッド層5のリッジ部5b下およびそのリッジ部5bの両側面のn-第1電流ブロック層7下の領域に光導波路を形成する。
Claim (excerpt):
平坦部と前記平坦部上の中央部に形成されたストライプ状のリッジ部とからなる第1導電型のクラッド層が活性層上に設けられた半導体レーザ装置において、前記クラッド層の前記平坦部上および前記リッジ部の側面上に前記第1導電型と逆の第2導電型を有しかつ前記クラッド層とほぼ等しい屈折率を有する第1の電流ブロック層が形成され、前記第1の電流ブロック層上の少なくとも平坦領域上に前記第2導電型を有しかつ前記クラッド層と異なる屈折率を有する第2の電流ブロック層が形成されたことを特徴とする半導体レーザ装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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特開平1-303778
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半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-193875
Applicant:シャープ株式会社
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特開平3-097286
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半導体レーザ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-170067
Applicant:株式会社東芝
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特開平4-296076
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半導体レーザ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-035980
Applicant:松下電子工業株式会社
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半導体レーザ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-341316
Applicant:日本電気株式会社
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半導体レーザおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-336373
Applicant:松下電器産業株式会社
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