新規なポリマ-及びフォトレジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐伯憲生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998349241
Publication number (International publication number)：1999240919
Application date： Nov. 04, 1998
Publication date： Sep. 07, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明は、新規のポリマー(重合体)と、このようなポリマーを樹脂バインダー成分として含む化学増幅型のポジ型フォトレジスト組成物を提供するものである。【解決手段】本発明の好ましいポリマーは、ポリマーの酸不安定(不安定)部分を効果的に脱保護するために温度を下げることができる1つ或はそれ以上の構造基を含むものである。

Claim (excerpt)：

ポリマーが実質的に芳香属基を含まず、かつ、ポリマーに懸垂されている酸不安定基(置換活性基)を有し、該酸不安定基が、置換基を有してもよいイソボルニル基、置換基を有してもよいフェンキル基、置換基を有してもよいピネニル基、置換基を有してもよい3,2,0架橋系基、置換基を有してもよい2,2,1架橋系基、置換基を有してもよい複素脂環式基、置換基を有してもよい3或は4の環状炭素原子を有するシクロアルキル基、又は、置換基を有してもよいアルケニル基のいずれかからなるものであるポリマー、及び、光酸発生化合物からなるポジ型のフォトレジスト組成物。

IPC (4)：

C08F220/16 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (4)：

C08F220/16 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

放射線感光材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-276597 Applicant：富士通株式会社
特開平4-355761
感光性材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-185046 Applicant：株式会社東芝

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