Pat

J-GLOBAL ID：200903063216625240

ケミカルメカニカルポリシングスラリにおける使用のための粒子の形成方法及び該方法で形成された粒子

Inventor： フォン,シアントン ,  ハー,イーシェン
Applicant, Patent owner： フエロ コーポレーション
Agent (1)： 岩橋 祐司
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003545749
Publication number (International publication number)：2005509725
Application date： Nov. 04, 2002
Publication date： Apr. 14, 2005
Summary：

【課題】 本発明は、ケミカルメカニカルポリシングスラリに研磨剤として使用するのに適した粒子の製造方法を提供する。【解決手段】 本発明による方法は、Ti[OCH(CH3)2)]4のような結晶化促進剤をセリウム塩水溶液に添加し、1種以上の塩基を用いてpHを7.0より高く調整した後、溶液を約90°Cから約500°Cの温度で水熱処理して粒子を得ることを含む。

Claim (excerpt)：

結晶化促進剤をセリウム塩水溶液に添加し、1種以上の塩基を用いてpHを7.0より高く調整し、この溶液を約90°Cから約500°Cの温度で水熱処理して粒子を得ることを含む、ケミカルメカニカルポリシングスラリにおける研磨剤としての使用に適した粒子の製造方法。

IPC (2)：

C09K3/14 ,  C01F17/00

FI (2)：

C09K3/14 550D ,  C01F17/00 A

F-Term (14)：

4G076AA02 ,  4G076AB05 ,  4G076AB07 ,  4G076AB10 ,  4G076BA12 ,  4G076BB06 ,  4G076BB08 ,  4G076BD01 ,  4G076BD02 ,  4G076CA02 ,  4G076CA15 ,  4G076CA25 ,  4G076CA26 ,  4G076DA30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

• 結晶性酸化第二セリウム粒子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-064542   Applicant：住友化学工業株式会社
• 結晶性酸化第二セリウムの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-155997   Applicant：日産化学工業株式会社
• 酸化セリウム超微粒子及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-325143   Applicant：三井金属鉱業株式会社
• 特公平6-002582
  
• 特開昭60-035075
  
• 特開昭56-131686
  
• 特開昭62-056322
  
• 酸化セリウム含有研磨用組成物及び研磨方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-005491   Applicant：セイミケミカル株式会社
• ガラス研磨用研磨材組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-357205   Applicant：昭和電工株式会社
• 半導体用研磨剤および半導体用研磨剤の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-116556   Applicant：セイミケミカル株式会社