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J-GLOBAL ID:200903063575080453
アルコール脱水素酵素、これをコードする遺伝子、およびそれを用いた光学活性(R)-3-キヌクリジノールの製造方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
南條 博道
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007327439
Publication number (International publication number):2008212144
Application date: Dec. 19, 2007
Publication date: Sep. 18, 2008
Summary:
【課題】3-キヌクリジノンを立体選択的に(R)-3-キヌクリジノールへと還元する新規な酵素を提供すること。【解決手段】以下の(1)から(3)に示す生化学的性質を有する酵素が提供される:(1)作用;還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド(NADH)を補酵素として、3-キヌクリジノンまたはその塩を不斉還元し、(R)-3-キヌクリジノールを生成する;(2)基質特異性;3-キヌクリジノン、p-トルキノンおよびα-ナフトキノンに作用し、その相対活性が、3-キヌクリジノン、p-トルキノンおよびα-ナフトキノンの順に高い;および(3)至適温度;pH7で反応させる場合、温度40〜45°Cにおいて作用が至適である。酵素はまた、特定なアミノ酸配列またはその改変配列を含み得る。当該酵素を利用して、高収率で高い光学純度の光学活性(R)-3-キヌクリジノールを製造することができる。【選択図】なし
Claim (excerpt):
以下の(1)から(3)に示す生化学的性質を有する酵素:
(1)作用:還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド(NADH)を補酵素として、3-キヌクリジノンまたはその塩を不斉還元し、(R)-3-キヌクリジノールを生成する;
(2)基質特異性:3-キヌクリジノン、p-トルキノンおよびα-ナフトキノンに作用し、その相対活性が、3-キヌクリジノン、p-トルキノンおよびα-ナフトキノンの順に高い;および
(3)至適温度:pH7で反応させる場合、温度40〜45°Cにおいて作用が至適である。
IPC (5):
C12N 15/09
, C12N 9/04
, C12N 1/20
, C12N 1/21
, C12P 17/18
FI (5):
C12N15/00 A
, C12N9/04 Z
, C12N1/20
, C12N1/21
, C12P17/18 A
F-Term (29):
4B024AA03
, 4B024BA08
, 4B024CA03
, 4B024CA04
, 4B024DA06
, 4B024EA04
, 4B024GA11
, 4B024HA12
, 4B050CC01
, 4B050CC03
, 4B050CC08
, 4B050DD02
, 4B050LL05
, 4B064AE56
, 4B064CA02
, 4B064CA19
, 4B064CA21
, 4B064CB18
, 4B064CC24
, 4B064CD12
, 4B064DA20
, 4B065AA11Y
, 4B065AA26X
, 4B065AB01
, 4B065AC14
, 4B065BA02
, 4B065CA18
, 4B065CA28
, 4B065CA44
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (18)
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キヌクリジン誘導体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-277884
Applicant:山之内製薬株式会社
-
独国特許出願第19715465号明細書
-
光学活性3-キヌクリジノールの製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-019441
Applicant:長瀬産業株式会社
-
特許第3129663号公報
-
光学活性キヌクリジノールの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-048928
Applicant:ダイセル化学工業株式会社
-
光学活性3-キヌクリジノールの製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-001926
Applicant:長瀬産業株式会社
-
R-3-キヌクリジノールの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-057943
Applicant:三菱化学株式会社
-
光学活性3-キヌクリジノールの製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-354126
Applicant:三菱レイヨン株式会社
-
光学活性アルコールの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-152955
Applicant:ダイセル化学工業株式会社
-
アルコール脱水素酵素およびそれを用いた光学活性3-キヌクリジノールの製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-146098
Applicant:三菱レイヨン株式会社
-
欧州特許出願公開第404737号公報
-
欧州特許出願公開第424021号公報
-
国際特許出願公開第92/04346号公報
-
国際特許出願公開第93/06098号公報
-
光学活性3-キヌクリジノールの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-005627
Applicant:ロンザリミテッド
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光学活性3-キヌクリジノールの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-128079
Applicant:高砂香料工業株式会社
-
光学活性3-キヌクリジノール類の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-248380
Applicant:高砂香料工業株式会社
-
米国特許第5215918号明細書
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Cited by examiner (7)
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アルコール脱水素酵素およびそれを用いた光学活性3-キヌクリジノールの製造法
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Application number:特願2002-146098
Applicant:三菱レイヨン株式会社
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-354126
Applicant:三菱レイヨン株式会社
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光学活性3-キヌクリジノールの製法
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Application number:特願平9-019441
Applicant:長瀬産業株式会社
-
光学活性キヌクリジノールの製造方法
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Application number:特願平9-048928
Applicant:ダイセル化学工業株式会社
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光学活性3-キヌクリジノールの製法
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Application number:特願平10-001926
Applicant:長瀬産業株式会社
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光学活性アルコールの製造方法
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Application number:特願2002-152955
Applicant:ダイセル化学工業株式会社
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-057943
Applicant:三菱化学株式会社
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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Phytochemistry, 1994, Vol.37, No.2, p.391-400
-
Proc.Natl.Acad,Sci.USA, 1993, Vol.90, p.9591-9595
-
沼津工業高等専門学校研究報告, 2002, p.135-139
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