有機EL表示装置の製造装置及び製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石井陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998322809
Publication number (International publication number)：2000133446
Application date： Oct. 28, 1998
Publication date： May. 12, 2000
Summary：

【要約】【課題】高品質かつ安定な品質を有し、低コストな、有機EL表示装置の製造装置および製造方法を実現する。【解決手段】成膜前の基板を搬送する第1の基板搬送手段61を有するロード側常圧搬送室11と、これに連結して、基板を常圧であるロード側常圧搬送室11から真空である真空搬送室31へ導入するロード室21と、ロード室21に連結して真空中で基板を搬送する第2の基板搬送手段62を有し、かつ1つ、または2つ以上の成膜室32〜35が連結されている真空搬送室31と、これに連結して、基板を真空の真空搬送室31から常圧のアンロード側常圧搬送室51へ搬出するアンロード室41と、アンロード室41に連結して成膜済みの基板を搬送する第3の基板搬送手段63を有するアンロード側常圧搬送室51とを有し、常圧時の前記アンロード室41と前記アンロード側常圧搬送室51とが、水分含有量100ppm 以下の不活性ガス雰囲気である有機EL表示装置の製造装置、およびこの装置を用いた製造方法とした。

Claim (excerpt)：

成膜前の基板を搬送する第1の基板搬送手段を有するロード側常圧搬送室と、これに連結して、基板を常圧であるロード側常圧搬送室から真空である真空搬送室へ導入するロード室と、このロード室に連結して真空中で基板を搬送する第2の基板搬送手段を有し、かつ1つ、または2つ以上の成膜室が連結されている真空搬送室と、これに連結して、基板を真空の真空搬送室から常圧のアンロード側常圧搬送室へ搬出するアンロード室と、このアンロード室に連結して成膜済みの基板を搬送する第3の基板搬送手段を有するアンロード側常圧搬送室とを有し、常圧時の前記アンロード室と前記アンロード側常圧搬送室とが、水分含有量100ppm 以下の不活性ガス雰囲気である有機EL表示装置の製造装置。

IPC (2)：

H05B 33/10 , H05B 33/14

FI (2)：

H05B 33/10 , H05B 33/14 A

F-Term (6)：

3K007AB18 , 3K007CA01 , 3K007CB01 , 3K007DA00 , 3K007FA00 , 3K007FA03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法および製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-056855 Applicant：ティーディーケイ株式会社
有機電界発光素子の製造装置及び製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-016564 Applicant：三菱化学株式会社
マルチチャンバプロセス装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-017674 Applicant：株式会社日立製作所

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