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J-GLOBAL ID:200903063638904699

電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射装置における真空シール方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 松隈 秀盛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001054739
Publication number (International publication number):2002257998
Application date: Feb. 28, 2001
Publication date: Sep. 11, 2002
Summary:
【要約】【課題】 電子ビームコラム15が内蔵される真空チャンバー14に静圧浮上パッド18が連結され、この静圧浮上パッド18が被照射体1に被接触で吸着した状態で電子ビームbが静圧浮上パッド18の電子ビーム通路19を通って被照射体1に照射される構造の部分真空方式の電子ビーム照射装置において、静圧浮上パッド18を被照射体1から離した状態でも真空チャンバー内を所要の真空度に維持できるようにする。【解決手段】 静圧浮上パッド18の内部に、電子ビーム通路19を開閉する真空シールバルブ30を備え、静圧浮上パッド18を被照射体1から離すときにはこの真空シールバルブ30を作動させて電子ビーム通路19を閉じることにより真空チャンバー14内への大気の流入を防ぐ構造とする。
Claim (excerpt):
電子ビームコラムが内蔵される真空チャンバーに静圧浮上パッドが連結され、この静圧浮上パッドが被照射体に非接触で吸着した状態で電子ビームが静圧浮上パッドの電子ビーム通路を通って被照射体に照射される構造の電子ビーム照射装置において、上記静圧浮上パッドの内部に、上記電子ビーム通路を開閉する真空シールバルブを備えたことを特徴とする電子ビーム照射装置。
IPC (7):
G21K 5/04 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 504 ,  G11B 7/26 501 ,  H01J 37/18 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/305
FI (7):
G21K 5/04 E ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 504 ,  G11B 7/26 501 ,  H01J 37/18 ,  H01J 37/20 Z ,  H01J 37/305 Z
F-Term (15):
2H097BA02 ,  2H097CA16 ,  2H097DB14 ,  2H097LA20 ,  5C001AA01 ,  5C001AA07 ,  5C001CC08 ,  5C033KK07 ,  5C033KK09 ,  5C034BB06 ,  5D121AA02 ,  5D121BA03 ,  5D121BB32 ,  5D121BB38 ,  5D121BB40
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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