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J-GLOBAL ID:200903063832917068
欠陥観察装置および方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
伊東 辰雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997241736
Publication number (International publication number):1999064188
Application date: Aug. 25, 1997
Publication date: Mar. 05, 1999
Summary:
【要約】【課題】 確実かつ簡便な方法でTEM等による観察用の試料を作成できるようにする。【解決手段】 観察用レーザ光1で被検物3を照明する照明手段と、これによって照明された被検物を観察するための顕微鏡5とを備え、レーザトモグラフィによる被検物中の欠陥もしくは異物の観察に用いられる欠陥観察装置において、前記顕微鏡下において、観察される欠陥もしくは異物の近傍の被検物表面の複数点にマーキングを行うマーキング手段5、7、9、11、13と、前記マーキングにより被検物表面に付された複数点のマークの位置および前記観察される欠陥もしくは異物の位置を前記顕微鏡を介して検出する位置検出手段5、19、21とを具備する。
Claim (excerpt):
観察用レーザ光で被検物を照明する照明手段と、これによって照明された被検物を観察するための顕微鏡とを備え、レーザ散乱法による被検物中の欠陥もしくは異物の観察に用いられる欠陥観察装置において、前記顕微鏡下において、観察される欠陥もしくは異物の近傍の被検物表面の複数点にマーキングを行うマーキング手段と、前記マーキングにより被検物表面に付された複数点のマークの位置および前記観察される欠陥もしくは異物の位置を前記顕微鏡を介して検出する位置検出手段とを具備することを特徴とする欠陥観察装置。
IPC (3):
G01N 1/28
, G01N 21/88
, H01L 21/66
FI (5):
G01N 1/28 H
, G01N 21/88 Z
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 A
, G01N 1/28 F
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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