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J-GLOBAL ID：200903063899480691

有機シラン化合物多層薄膜及び有機シラン化合物薄膜の製造方法

Inventor：
加藤 愼治

About 加藤 愼治


Applicant, Patent owner：
財団法人川村理化学研究所

About 財団法人川村理化学研究所


Agent (2)： 志賀 正武 ,  渡邊 隆
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002256502
Publication number (International publication number)：2004089902
Application date： Sep. 02, 2002
Publication date： Mar. 25, 2004
Summary：
【課題】高い結合安定性を有する有機シラン化合物多層薄膜と、ナノメートル単位で膜厚を制御できる該有機シラン化合物多層薄膜の簡便な製造方法の提供。【解決手段】本発明の製造方法は、(1)ヒドロキシ基を有する基材表面に、チタンテトラブトキシドのような金属アルコキシド化合物(A)の溶液を接触させて、該化合物(A)を基材表面に結合させる工程と、(2)前記(1)の後、基材の表面に結合した該化合物(A)中に残存する-O-R1基を加水分解して、ヒドロキシ基を生成させる工程と、(3)前記(2)の工程で生じたヒドロキシ基に、一分子中に、アルコキシ基を少なくとも1つ有し且つSi-C結合を有するケイ素原子を2つ以上有する有機シラン化合物(B)の溶液を接触させ、該ヒドロキシ基に該有機シラン化合物(B)を結合させる工程とを有する。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(1)ヒドロキシ基を有する基材表面に、一般式 -M(-O-R1)n(式中、Mは周期律表4族、5族、6族又は13族に属する元素からなる群から選択される1つの元素であり、R1は炭素数1〜10のアルキル基からなる群から選択される1つの基であり、nは2以上の整数である。)で表される基を含む化合物(A)の溶液を接触させて、前記化合物(A)を基材表面に結合させる工程と、 (2)前記(1)の工程で得られた基材の表面に結合した前記化合物(A)中に残存する前記-O-R1基を加水分解して、ヒドロキシ基を生成させる工程と、 (3)前記(2)の工程で加水分解によって生成したヒドロキシ基に、一分子中に、アルコキシ基を少なくとも1つ有し且つSi-C結合を有するケイ素原子を2つ以上有する有機シラン化合物(B)の溶液を接触させ、前記ヒドロキシ基に該有機シラン化合物(B)を結合させる工程とを有することを特徴とする有機シラン化合物薄膜の製造方法。
IPC (3)：
B05D7/24 ,  B32B9/00 ,  C03C17/34
FI (3)：
B05D7/24 302Y ,  B32B9/00 Z ,  C03C17/34 A
F-Term (49)：
4D075AE03 ,  4D075BB26Z ,  4D075BB65Y ,  4D075BB69Y ,  4D075CA13 ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB31 ,  4D075DC16 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EB43 ,  4D075EB47 ,  4D075EC07 ,  4F100AG00A ,  4F100AH06C ,  4F100AH06E ,  4F100AH08B ,  4F100AH08D ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA08 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100BA10D ,  4F100BA10E ,  4F100EH46 ,  4F100EJ86 ,  4F100GB90 ,  4F100JM02B ,  4F100JM02C ,  4F100JM02D ,  4F100JM02E ,  4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AC00 ,  4G059AC30 ,  4G059FA01 ,  4G059FA05 ,  4G059FA29 ,  4G059FB06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (10)
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