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J-GLOBAL ID：200903063979555064

ウエットプロセス装置及び方法

Inventor： 大見 忠弘 ,  菊山 裕久 ,  宮下 雅之 ,  泉 浩人
Applicant, Patent owner： 深田 純子
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995171230
Publication number (International publication number)：1997022891
Application date： Jul. 06, 1995
Publication date： Jan. 21, 1997
Summary：

【要約】【課題】 エッチング、クリーニングを経時的にも均一に行うことが可能なウエットプロセス装置を提供すること。【解決手段】 薬液組成タンクと組成調整用タンクの2つのタンクを備え、所定位置に設置された薬液槽に、組成調整用タンクから組成調整用薬液を供給することにより組成変化した該薬液槽中の薬液を所定の薬液組成に維持するようにしたことを特徴とする。特に、フッ化水素酸(HF)の濃度が0.1重量%以下であり、フッ化アンモニウム(NH4F)の濃度が30重量%以下とした場合には薬液の組成調整はほぼ純水のみで足りる。

Claim (excerpt)：

薬液組成タンクと組成調整用タンクの2つのタンクを備え、所定位置に設置された薬液槽に、組成調整用タンクから組成調整用薬液を供給することにより組成変化した該薬液槽中の薬液を所定の薬液組成に維持するようにしたことを特徴とするウエットプロセス装置。

IPC (4)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/308

FI (4)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 L ,  H01L 21/308 G ,  H01L 21/306 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-200234   Applicant：新日本製鐵株式会社
• 特開平3-072626
  
• 液中異物付着防止溶液とそれを用いたエッチング方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-001908   Applicant：株式会社日立製作所
• シリコンウエハ上のコンタクトホール内の自然酸化膜の除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-235404   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平2-280844
  
• クリーンルームにおける排気ガスの排出方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-228765   Applicant：日本酸素株式会社
• 半導体洗浄装置及びウエハカセット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-225611   Applicant：三菱電機株式会社