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J-GLOBAL ID:200903064505217369

マイクロミラー素子の製造方法およびこれにより製造されるマイクロミラー素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 吉田 稔 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001249695
Publication number (International publication number):2003057574
Application date: Aug. 20, 2001
Publication date: Feb. 26, 2003
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 材料基板の厚み方向の中間に正確に位置しつつ、より高精度の厚み寸法を有する薄肉のトーションバーを有するマイクロミラー素子の製造方法、およびこれにより製造されたマイクロミラー素子を提供すること。【解決手段】 複数のシリコン層20,21および少なくとも1つの中間層160を含む積層構造を有する材料基板8において、ミラー形成部と、フレーム部と、トーションバーとを備えるマイクロミラー素子を製造するにあたり、シリコン層20に対してエッチング処理を行うことによって、ミラー形成部よりも薄肉であって中間層に接するプレトーションバーT’を形成する工程と、プレトーションバーT’に接する中間層160を除去することによってトーションバーTを形成する工程とを行うこととした。
Claim (excerpt):
複数のシリコン層および少なくとも1つの中間層を含む積層構造を有する材料基板において、ミラー形成部と、フレーム部と、トーションバーとを備えるマイクロミラー素子を製造するための方法であって、前記シリコン層に対してエッチング処理を行うことによって、前記ミラー形成部よりも薄肉であって前記中間層に接するプレトーションバーを形成する工程と、前記プレトーションバーに接する中間層を除去することによってトーションバーを形成する工程と、を含むことを特徴とする、マイクロミラー素子の製造方法。
IPC (3):
G02B 26/08 ,  B81B 3/00 ,  B81C 1/00
FI (3):
G02B 26/08 E ,  B81B 3/00 ,  B81C 1/00
F-Term (7):
2H041AA14 ,  2H041AA16 ,  2H041AB14 ,  2H041AC06 ,  2H041AZ02 ,  2H041AZ05 ,  2H041AZ08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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